CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，大可处理210mm（8英寸）圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，软件用户可以*控制压印过程。

EZI UV NIL纳米压印机 EZI 紫外曝光纳米压印系统 EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600. EZImprinting是一种超高产率（ 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。

EZ Imprinting推出了一款台式独立NIL纳米压印PL系列系统：PL系列400/600. EZImprinting是一种超高产率（ 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。 该平台提供具有微定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室，UV固化源和对准显微镜。 它即可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模对准器，同时提供可编程的自动控制功能。

SU-8 3000已被配制用于改进的粘合性和降低的涂层应力。它被用于需要高结合强度和改进的微结构制造柔性的地方。 结果，大大提高了与基板的粘合性。

MYCRO*美国恩科优NXQ Mask Alignment光刻机，是quanqiu优越的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，quanqiu售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

MYCRO*美国恩科优N&Q系列光刻机（Mask Aligner)，是*的光刻系统，在光刻领域有超过35年的经验，售出1000多套设备，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。