光刻胶mr-NIL212FC 系列——专为高精度软紫外纳米压印设计的革命性解决方案 产品核心优势： 快速固化技术（FC）：专为 200 nm 以下微细结构 优化，即使低强度紫外光源（如 LED）也能实现高效固化，显著提升生产效率。 Excellence刻蚀稳定性：相比标准型号（mr-NIL210），对 SiO₂ 等难刻蚀基材 的兼容性更强，图案转移精度更高。 PDMS 印章最佳搭

高分辨率：支持 ＜100 nm 结构压印（如mr-NIL212FC可实现200nm柱阵列）。 量产适配： UV-NIL：室温低压（＜100 mbar），适合大面积和连续生产（R2R）。 T-NIL：热塑性/热固性 可选，平衡效率与稳定性。 工艺灵活性： 可搭配 LOR 光刻胶实现金属纳米结构剥离（Lift-off）。 通过 SiPOL 硅含量树脂实现图案放大，用于深槽刻蚀。

纳米压印胶 mr-NIL200 系列——专为高精度图案转移设计的紫外光固化解决方案。自粘附配方，无需底涂，专为硬质印章（石英/OrmoStamp®）设计。

mr-NIL210系列是一款专为软紫外纳米压印技术（soft UV-NIL）设计的光固化纳米压印胶，特别适配于PDMS类软质印章材料（推荐使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成为图案转移工艺中理想的蚀刻掩模材料。

公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料，热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品，如模板防粘剂、基片增粘剂等。

德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶，除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外，还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。