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  • 美国Futurrex光刻胶
    Futurrex成立于1985年,是美国高端光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称,从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有:Ti、半导体、HP、SHARP、3M、UniversalDisplay、ETC、LG、Qualcomm(高通)等。Futurrex长期与Intel实验室合作,产品被广泛收录进美国各大学半导体教程,是各大研究机构产品。
  • ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist电子束及深紫外光刻胶
    德国MicroResist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。
  • PR1系列Futurrex紫外正性光刻胶
    Futurrex成立于1985年,是美国高端光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称,从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有:Ti、半导体、HP、SHARP、3M、UniversalDisplay、ETC、LG、Qualcomm(高通)等。Futurrex长期与Intel实验室合作,产品被广泛收录进美国各大学半导体教程,是各大研究机构产品。
  • NR9-P、NR9G-P、NR5Futurrex紫外负性光刻胶
    Futurrex成立于1985年,是美国高端光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称,从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有:Ti、半导体、HP、SHARP、3M、UniversalDisplay、ETC、LG、Qualcomm(高通)等。Futurrex长期与Intel实验室合作,产品被广泛收录进美国各大学半导体教程,是各大研究机构产品。

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