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  • GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8负性抗蚀剂

    EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品,非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。 典型的SU-8过程包括以下步骤: 基板准备 旋涂 松弛时间以提高表面均匀度 软烤 曝光后烘烤 发展历程 冲洗并干燥 可选硬烤

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    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-15
  • 2035/2050/2075/2100光刻胶SU-8 2000

    SU-8 2000是一种高对比度,基于环氧的光致抗蚀剂,设计用于微加工和其他微电子应用,需要厚,化学和热稳定的图像。 SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥,极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。 SU-8 2000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。

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    厂商性质:代理商
    更新日期:2019-10-17
  • 3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻胶

    SU-8 3000是一种高对比度,基于环氧的光刻胶,专为微加工和其他微电子应用中, 需要化学和热稳定的图像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改进配方,已被广泛采用 由MEMS生产商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。 SU-8 3000的粘度范围允许膜厚为4至单层涂层厚度为120 µm。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2021-03-04
  • 2005/2010/2025光刻胶SU-8 2000

    SU-8 2000是一种高对比度,基于环氧的光致抗蚀剂,设计用于微加工和其他微电子应用,需要厚,化学和热稳定的图像。 SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥,极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。 SU-8 2000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。

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    更新日期:2019-10-17
  • Microchem SU-8 2000 系列

    SU-8 2000化学放大,i线抗蚀剂非常适合制造 permanent性器件结构。 这些负色调,环氧基抗蚀剂表现出优异的耐化学性和低的杨氏模量,使其成为制造微/纳米结构的理想选择,如悬臂,膜和微通道。

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    产品价格:面议
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    更新日期:2018-07-31
  • SU-8 3035,  3050Microchem SU-8 3000系列

    SU-8 3000已被配制用于改进的粘合性和降低的涂层应力。它被用于需要高结合强度和改进的微结构制造柔性的地方。 结果,大大提高了与基板的粘合性。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2017-04-13
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