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产品图片 产品名称/型号 产品描述
  • 2035/2050/2075/2100光刻胶SU-8 2000
    SU-82000是一种高对比度,基于环氧的光致抗蚀剂,设计用于微加工和其他微电子应用,需要厚,化学和热稳定的图像。SU-82000是SU-8的改进配方,多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥,极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。SU-82000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。
  • 3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻胶
    SU-83000是一种高对比度,基于环氧的光刻胶,专为微加工和其他微电子应用中, 需要化学和热稳定的图像。SU-83000是SU-8和SU-82000的改进配方,已被广泛采用 由MEMS生产商使用多年。SU-83000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。 SU-83000的粘度范围允许膜厚为4至单层涂层厚度为120µm。
  • 2005/2010/2025光刻胶SU-8 2000
    SU-82000是一种高对比度,基于环氧的光致抗蚀剂,设计用于微加工和其他微电子应用,需要厚,化学和热稳定的图像。SU-82000是SU-8的改进配方,多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥,极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。SU-82000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。
  • Microchem SU-8 2000 系列
    SU-82000化学放大,i线抗蚀剂非常适合制造permanent性器件结构。这些负色调,环氧基抗蚀剂表现出优异的耐化学性和低的杨氏模量,使其成为制造微/纳米结构的理想选择,如悬臂,膜和微通道。
  • SU-8 3035,  3050Microchem SU-8 3000系列
    SU-83000已被配制用于改进的粘合性和降低的涂层应力。它被用于需要高结合强度和改进的微结构制造柔性的地方。结果,大大提高了与基板的粘合性。

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