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当前位置:首页   >  产品中心  >  光刻胶  >  SU-8胶  >  GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8负性抗蚀剂

EM Resist SU-8负性抗蚀剂

简要描述:EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品,非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。
典型的SU-8过程包括以下步骤:
基板准备 旋涂 松弛时间以提高表面均匀度 软烤 曝光后烘烤 发展历程 冲洗并干燥 可选硬烤

  • 产品型号:GM1010/GM1020/GM1075
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2020-09-15
  • 访  问  量:1042

详细介绍

EM Resist SU-8负性抗蚀剂产品,非常适合半导体应用。我们的产品有各种形式和厚度范围。

产品                  膜厚范围            涂层选项

GM1010           <0.2微米           喷涂外套

GM1020           0.2-0.5微米      旋转,喷涂,喷墨

GM1030           0.5-1.2微米      旋转,喷涂,喷墨

GM1040           0.9-3.2微米      旋转,喷涂,喷墨

GM1050            3-8微米              旋转,喷墨

GM1060            2-27微米            旋转,喷墨

GM1070           15-200微米         旋转,喷墨

GM1075           100-400微米       旋转,喷墨

小订购量为250mL

 

SML Resist是一种高分辨率,高纵横比的正色调电子束抗蚀剂。EM Resist SU-8负性抗蚀剂具有出色的附着力和出色的抗干蚀刻性。SML可用于MEMS,波带片,光子学和许多其他纳米加工应用

SML电子束抗蚀剂的厚度范围从50nm2μm,起始体积仅为50mL

高性能SML电子束抗蚀剂是一种新型聚合物,专为满足EBL社区的需求而设计。即使在低加速电压下,也无需借助邻近效应校正,就可以同时将其图案化为高分辨率和高长宽比的图案。

SML抗蚀剂经过专门设计,可与标准PMMA工艺配合使用。无需更改化学或过程培训。

产品范围–厚度

SML5040nm 100nm

SML10090nm 210nm

SML300250nm 600nm

 

技术指标

高分辨率:<10nm

*的宽高比:

30 kV> 101

> 501 @ 100 kV

厚度:50 nm 2000 nm

 

PMMA抗蚀剂是用于电子束光刻的行业标准正性抗蚀剂。我们提供各种分子量和厚度的PMMA

PMMA Resist是行业标准的电子束抗蚀剂,广泛用于学术界和工业,用于高分辨率功能和剥离应用。它也可以用于纳米压印应用以及其他晶圆厂和研发过程,例如石墨烯薄片转移。

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