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  • 2024

    2-25

    WS1000湿法刻蚀机是一种用于半导体器件制造和研究领域的关键设备,主要用于在硅片表面进行刻蚀和清洗处理。采用湿法刻蚀技术,通过将硅片浸泡在特定的化学溶液中,利用化学反应来实现对硅片表面的刻蚀和清洗。在刻蚀过程中,控制刻蚀液的温度、浓度、流速等参数,可以精确控制刻蚀速率和刻蚀深度,实现对硅片表面的精确加工。WS1000湿法刻蚀机的结构特点:1.反应池:用于装载刻蚀液和硅片,实现刻蚀和清洗过程。2.温控系统:用于控制刻蚀液的温度,确保刻蚀过程的稳定性和可控性。3.流量控制系统:...

  • 2024

    1-25

    3850压实密度仪是一种用于测量土壤、沥青、混凝土等材料压实程度的仪器。通过施加一定的压力,使材料达到一定的密实度,然后测量其体积和重量,从而计算出材料的压实密度。压实密度是衡量材料密实程度的重要指标,对于道路、桥梁、建筑等工程的质量有着重要影响。3850压实密度仪的特点:1.结构紧凑,操作简便:采用一体化设计,将主机、压力传感器、位移传感器等集成在一个小型设备中,便于携带和操作。同时,仪器配备了大屏幕液晶显示器,可以直观地显示测量数据和操作提示,使得操作更加简便。2.测量精...

  • 2023

    12-24

    NOVASCAN紫外臭氧清洗机是一款高效、环保的清洗设备,广泛应用于医疗、食品、饮料、生物制药等行业。采用紫外光和臭氧双重杀菌技术,能够在短时间内有效去除各种表面的细菌、病毒、霉菌等微生物,保证生产环境的洁净度和安全性。工作原理是利用高能紫外光对微生物进行破坏,使其失去繁殖能力,同时产生臭氧气体,进一步氧化分解残留在表面的有机物和无机物,达到清洗的目的。紫外光的波长范围在200-400纳米之间,具有很强的穿透力和杀菌能力,能够在短时间内杀死各种微生物。臭氧是一种强氧化剂,具有...

  • 2023

    11-26

    WABASH平板硫化机是一种专业用于橡胶硫化的设备,广泛应用于橡胶制品行业。为一种高效、可靠的橡胶硫化设备,具备高效硫化、稳定性、自动化控制和多功能性等特点。它在橡胶制品行业的汽车工业、电力工业和医疗器械等领域有着广泛的应用。WABASH平板硫化机的特点:1.高效硫化:采用*技术和设计,能够实现高效的橡胶硫化过程。其具有均匀的温度分布和良好的压力控制系统,确保橡胶制品在硫化过程中获得高质量的硫化效果。2.稳定性:采用高品质的材料和制造工艺,具有稳定可靠的性能。它能够长时间运行...

  • 2023

    10-22

    NXQ8000系列掩膜曝光机是一种高精度半导体生产设备,广泛应用于集成电路、光学器件、MEMS等领域中。该设备采用了*激光直写技术和精密光学系统,能够实现高分辨率、高精度的掩模制作,有助于提高半导体芯片的制造质量和性能。主要采用激光直写技术进行掩模制作,其原理基于光刻技术。激光束经过调制和放大后,通过精密的光学系统投射到掩模上,控制激光的强度和位置进行掩模绘制。通过多次重复的曝光和显影步骤,最终得到高精度、高分辨率的掩模。NXQ8000系列掩膜曝光机的特点:1.高精度:采用*...

  • 2023

    9-24

    EDC-650显影机是一种常见的医学影像设备,用于对放射学胶片进行显影处理。它在医院、诊所等医疗机构中广泛应用,为医生和放射技师提供清晰的影像结果,辅助他们做出准确的诊断。EDC-650显影机设备原理与结构:1.外壳:通常采用金属材质,具有良好的耐腐蚀性和防护性能。外壳内部设计有适当的开口,用于放置和取出胶片。2.X射线源:显影机配备有X射线源,用于产生高能量的X射线束。X射线源通常由高压电源和防护装置组成,可以调节X射线的强度和时间,以满足不同类型的胶片需求。3.显影槽:显...

  • 2023

    8-20

    MicroChem光刻胶是一种用于微纳米制造的关键材料。它是一种可塑性高分子材料,广泛应用于半导体、光学元件和微系统等领域。光刻胶具有优异的光学特性、化学稳定性和机械强度,为微纳米制造提供了重要支持。光刻胶的主要成分包括光敏剂、聚合物基质和溶剂。其中,光敏剂是实现图案化的关键成分。在曝光过程中,光敏剂吸收光能并引发化学反应,从而使光刻胶发生物理或化学变化。聚合物基质则提供了光刻胶的机械强度和化学稳定性。溶剂则用于调节光刻胶的黏度和涂覆性能。MicroChem光刻胶的工艺流程通...

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