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  • PlasmaStar 200/200 RIE等离子刻蚀机

    PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的*功能。 腔室材料是硬质阳极氧化铝, 有几种不同的电极设计,包括用于反应离子刻蚀(RIE)和平面处理的水冷平板电极,用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极,用于小化离子损伤的下游电极,和用于普通的圆柱形笼式电极。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2019-08-15
  • PlasmaStar 100/100 RIE反应离子刻蚀机PlasmaStar 100

    反应离子刻蚀机PlasmaStar 100仪器介绍 PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料,拥有多种腔室和电极配置,可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小,用于各种等离子工艺的模块化腔室和电极配置。此外,触摸屏计算机控制,多级程序控制和组件控制,操作简单。PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的*功能。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-29
  • Tergeo-Pro 等离子系统

    Tergeo-Pro 等离子清洗机的应用类似于较小的 Tergeo 等离子系统,不同之处在于它可以接受更大的样品。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2022-05-19
  • K1050X射频等离子体蚀刻机

    射频等离子体蚀刻机Quorum K1050X可以用于使用反应气体(例如CF 4) 去除硅层,以及用于使用氧气去除光刻胶。 等离子灰化是指使用氧气或空气对有机材料进行可控的低温去除,其广泛应用于研究和质量控制领域。RF等离子还可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清洁TEM和SEM样品以及样品支架。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-08-17
  • GloQubePlusTEM清洗机

    TEM清洗机GloQube®Plus是一种经济高效,紧凑且易于使用的辉光放电系统,旨在满足使用TEM的实验室的需求。GloQube®Plus的主要应用是修改TEM网格的表面,使其满足成功成像的要求。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-08-17
  • SEMI-KLEENSEMI-KLEEN 等离子清洗仪

    远程等离子清洁的原理 远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2019-05-08
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