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产品图片 产品名称/型号 产品描述
  • PlasmaStar 200/200 RIE等离子刻蚀机
    PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。腔室材料是硬质阳极氧化铝,有几种不同的电极设计,包括用于反应离子刻蚀(RIE)和平面处理的水冷平板电极,用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极,用于最小化离子损伤的下游电极,和用于普通的圆柱形笼式电极。
  • PlasmaStar 100/100 RIE反应离子刻蚀机PlasmaStar 100
    仪器介绍 PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料,拥有多种腔室和电极配置,可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小,用于各种等离子工艺的模块化腔室和电极配置。此外,触摸屏计算机控制,多级程序控制和组件控制,操作简单。PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。
  • K1050X射频等离子体蚀刻机
    射频等离子体蚀刻机QuorumK1050X可以用于使用反应气体(例如CF4)去除硅层,以及用于使用氧气去除光刻胶。等离子灰化是指使用氧气或空气对有机材料进行可控的低温去除,其广泛应用于研究和质量控制领域。RF等离子还可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清洁TEM和SEM样品以及样品支架。
  • GloQubePlusTEM清洗机
    TEM清洗机GloQube®Plus是一种经济高效,紧凑且易于使用的辉光放电系统,旨在满足使用TEM的实验室的需求。GloQube®Plus的主要应用是修改TEM网格的表面,使其满足成功成像的要求。
  • SEMI-KLEENSEMI-KLEEN 等离子清洗仪
    远程等离子清洁的原理 远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。
  • EM-KLEENEM远程等离子清洁仪
    美国PIE出品的EM远程等离子清洁仪,广泛用于SEM扫描电镜,FIB聚焦离子束双束电镜,TEM透射电镜,XPS_X射线光电子能谱分析仪,ALD原子层沉积系统,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系统,可同时清洁真空腔室和样品!

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