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型号: 反应离子刻蚀机PlasmaStar 200/200RIE
产地: 美国
品牌: Axic
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技术规格:
型号 | PlasmaStar 100 | PlasmaStar 100RIE | PlasmaStar 200 | PlasmaStar 200RIE |
舱体尺寸 | 直径254×深度356mm | 直径200×深度280mm | 宽305×高305×深406mm | 宽305 ×高200×深406mm |
舱体材质 | 标配为阳极氧化铝舱体 | |||
常用气体 | 空气,氧气,氢气,氩气,氮气,CF4,SF6等和其他混合气体 | |||
气路控制 | 标配2路MFC,PlasmaStar 100多可选配4路, | 标配2路MFC,PlasmaStar 200多可选配5路; | ||
控制系统 | 电阻触摸屏操作界面 | |||
程序控制 | PC触屏控制,可编程序,无线存储数据 | |||
射频频率 | 13.56 MHz | |||
射频功率 | 0~600W瓦之间距连续可调,自动匹配 | 0~1000W瓦之间距连续可调,自动匹配 | ||
电极设计 | 标准圆柱形笼式电极; | 标准圆柱形笼式电极; 可选交替多层托盘电极; 可选RIE平面处理水冷平板电极 | ||
设备尺寸 | 宽800 x 深850 x 高525mm; | 宽1033 x 深850 x 高635mm; |
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