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当前位置:首页   >  产品中心  >  湿法刻蚀显影清洗系统  >  EDC系列  >  EDC-650HZ-23NPPBLaurell-EDC匀胶显影机

Laurell-EDC匀胶显影机

简要描述:Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶,显影,刻蚀,冲洗,甩干等工艺,可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀,我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累,通过对各路试剂注射的控制,对氮气和去离子水综合应用,能够完整实现样片的干进干出。是当今*和经济的湿法处理解决方案。

  • 产品型号:EDC-650HZ-23NPPB
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2020-09-08
  • 访  问  量:2741

详细介绍

Laurell-EDC匀胶显影机(英文名:Developing)

型号:EDC-650Mz-23NPP

产地:美国                            

一、产品概述:

    Laurell-EDC匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

二、匀胶显影机工作原理:

显影系统具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻、显影和清洗应用的要求重复进行,如冲洗(通常是去离子水或溶剂),然后干燥(通常是氮气)后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在*干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。匀胶显影机还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。

三、匀胶显影机主要性能指标:                                             

1、腔体尺寸:9.5英寸 (241 毫米);

2、Wafer&芯片:直径6英寸(150毫米)的晶圆片或者5x5英寸(125毫米)的方片;

3、非真空托盘:聚丙烯材质非真空托盘,可承载2、3英寸及150毫米的晶圆片-并带有背面清洗功能;

3、转动速度:0-12,000rpm,

5、马达旋涂转速:稳定性能误差 < ±1%;

6、工艺时间设定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;

7、高精度数码控制器:PLC控制,设置点精度小于0.006%;

8、程序控制:可存储20个程序段,每个程序段可以设置51步不同的速度状态;

9、分辨率:分辨率小于0.5转/分,可重复性小于±0.5转/分,美国国家标准技术研究院(NIST)认证过的,并且无需再校准!]

10、腔体开关盖板:透明ECTFE材质圆顶盖板,便于实时进行可视化操作;

11、腔体材质说明:用聚丙烯材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体;
12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;

13、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;

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