咨询热线

18971121198

当前位置:首页   >  产品中心   >  湿法刻蚀显影清洗系统  >  Ultra T

  • SCS112/SCSe124/SCSe126湿法显影掩膜版清洗系统

    SCS112型是一款高效率手动型的湿法显影掩膜版清洗系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片,针对8英寸晶圆片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案,针对10英寸晶圆片。

    访问次数:569
    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-24
  • CESx124UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统

    UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。

    访问次数:588
    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-23
共 2 条记录,当前 1 / 1 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
迈可诺技术有限公司
  • 联系人:叶盛
  • 地址:洪山区珞狮南路147号未来城A栋
  • 邮箱:sales@mycroinc.com
  • 传真:
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有©2022迈可诺技术有限公司All Rights Reserved    备案号:    sitemap.xml    总访问量:415031
管理登陆    技术支持:化工仪器网