匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
掩膜曝光光刻机 |
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Mask Aligner系列 |
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NXQ系列 |
狭缝涂布仪 |
烤胶机/热板 |
快速退火炉 |
纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
紫外臭氧清洗机 |
紫外固化机/紫外固化箱 |
等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
超声波清洗机 |
等离子去胶机 |
探针台 |
光学膜厚仪 |
原子层沉积系统 |
压片机/液压机 |
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等静压机 |
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标准型实验室压片机 |
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加热型手动压片机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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层压机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
制样机 |
手持式表面分析仪 |
接触角测角仪 |
干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
韩国波导树脂 |
环氧树脂 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
碳纸碳布 |
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碳纸 |
防潮箱 |
马弗炉 |
培养箱 |
蠕动泵 |
热循环仪 |
离心机 |
手套箱 |
天平 |
键合机 |
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JFP引线键合机 |
紫外交联仪 |
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UVP紫外交联仪 |
膜厚监测仪 |
离子溅射仪 |
搅拌脱泡机 |
椭偏仪 |
自动涂膜器 |
分光光度计 |
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红外光谱仪 |
点胶机 |
喷涂机 |
晶圆片 |
密度测试仪 |
临界点干燥仪 |
光谱仪 |
太阳光模拟器 |
干燥机 |
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旋转冲洗干燥机 |
Norland胶水 |
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光学胶 |
超声喷涂机 |
真空回流焊炉 |
过滤器 |
切割机 |
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晶圆切割机 |
简介:这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。CESx可以配置多种工艺分配选项,Megasonic喷嘴对DI H20或化学药品的处理分配选项;用于化学制剂的低压喷嘴;化学加热器和DI-H20;用于表面搅拌以加快反应的刷子,和/或DI H20等。
可编程抛物线机械臂运动有助于确保均匀蚀刻。快速有效的干燥技术结合了可变的旋转速度;可选加热DI-H20和氮气辅助。该系统非常安全,在接近基底之前,可以通过“漂洗至pH” 尽量减少对化学物质的接触。
特点:
技术参数:
主营产品:
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统,湿站系统
Wabash/Carver自动压片机
产品相关关键字: 湿法刻蚀系统 刻蚀/剥离系统 化学清洗/刻蚀系统 CESx124 Etch/Strip |