湿法刻蚀显影清洗系统 |
匀胶机/匀胶旋涂仪 |
狭缝涂布仪 |
掩膜曝光光刻机 |
· |
Mask Aligner系列 |
· |
NXQ系列 |
纳米压印光刻机 |
· |
NIL系列 |
快速退火炉 |
烤胶机/热板 |
紫外臭氧清洗机 |
紫外固化机/紫外固化箱 |
等离子去胶机 |
超声波清洗机 |
等离子清洗机 |
· |
大气常压等离子清洗系统 |
· |
HPC小型射频等离子清洗机 |
· |
PIE小型等离子清洗机 |
· |
PPC微波等离子清洗机 |
· |
STAR系列等离子清洗机 |
· |
PE等离子表面处理清洗机 |
· |
Anatech等离子刻蚀机 |
· |
SCE射频等离子清洗系统 |
原子层沉积系统 |
光学膜厚仪 |
探针台 |
压片机/液压机 |
· |
等静压机 |
· |
标准型实验室压片机 |
· |
加热型手动压片机 |
· |
自动台式实验室压片机 |
· |
压实密度仪 |
· |
实验室电动压片机 |
· |
层压机 |
· |
Dake手压机 |
· |
Dake压片机 |
· |
WABASH平板硫化机 |
制样机 |
接触角测角仪 |
手持式表面分析仪 |
干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
环氧树脂 |
韩国波导树脂 |
光学试剂 |
· |
美国Cargille光学试剂 |
· |
美国Cargille光学浸入液 |
· |
美国Cargille激光液 |
· |
美国Cargille封片剂 |
· |
美国Cargille硼酸片 |
· |
美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
· |
美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
· |
美国Cargille折射率匹配液 |
· |
Naphrax 硅藻胶 |
钙钛矿材料 |
· |
钙钛矿前体材料 |
· |
钙钛矿前体油墨 |
· |
空穴传输材料&掺杂物 |
· |
密封剂 |
· |
添加剂材料/改性剂材料 |
· |
玻璃基板 |
· |
电解质/电解液 |
· |
染料&光敏剂 |
· |
配体材料&中间分子材料 |
· |
二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
碳纸碳布 |
· |
碳纸 |
防潮箱 |
马弗炉 |
培养箱 |
蠕动泵 |
热循环仪 |
离心机 |
手套箱 |
天平 |
键合机 |
· |
JFP引线键合机 |
紫外交联仪 |
· |
UVP紫外交联仪 |
膜厚监测仪 |
离子溅射仪 |
搅拌脱泡机 |
椭偏仪 |
自动涂膜器 |
分光光度计 |
· |
红外光谱仪 |
点胶机 |
喷涂机 |
晶圆片 |
密度测试仪 |
临界点干燥仪 |
光谱仪 |
太阳光模拟器 |
干燥机 |
· |
旋转冲洗干燥机 |
Norland胶水 |
· |
光学胶 |
超声喷涂机 |
真空回流焊炉 |
过滤器 |
切割机 |
· |
晶圆切割机 |
湿法显影掩膜版清洗系统
手动型SCS112
SCS112型是一款高效率手动型的系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片。可通过施加高压DI水射流或雾化喷嘴来清洁安装在环(抓环)或胶片框架上的晶圆,然后使用高转速,氮气辅助或红外加热灯进行快速干燥。该系统最大可处理8英寸晶圆。
功能:
选项:
产品参数:
手动型SCSe124
SCSe124型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe124可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe124具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。
功能:
产品参数:
手动型SCSe126
SCSe126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe126可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe126具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。
功能:
• 径向排气腔,可实现最大层流。
• 独立式聚丙烯腔室。
• 微处理器可控制10个程序段。
• 内置安全联锁。
• 按钮盖启动 打开/关闭。
• 触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告。
• 最多可使用4个机械臂。
产品参数:
产品相关关键字: 手动晶圆清洗系统 湿法显影掩膜版清洗 光掩膜版清洗 SCS112 亚微米级晶圆清洁 |