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湿法显影掩膜版清洗系统

型    号:SCS112/SCSe124/SCSe126
报    价: 市场价:
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SCS112型是一款高效率手动型的系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片,针对8英寸晶圆片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案,针对10英寸晶圆片。

湿法显影掩膜版清洗系统产品概述:

湿法显影掩膜版清洗系统

手动型SCS112

SCS112型是一款高效率手动型的系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片。可通过施加高压DI水射流或雾化喷嘴来清洁安装在环(抓环)或胶片框架上的晶圆,然后使用高转速,氮气辅助或红外加热灯进行快速干燥。该系统最大可处理8英寸晶圆。

功能:

  • 可处理高达8英寸的晶圆,包括未安装的晶片以及胶带环形和薄膜框架安装晶片。
  • 振荡高压直流水,风扇射流组装(取决于高达15002000/平方英寸 配置上)或雾化喷雾喷嘴,高效清洁。
  • 快速有效干燥的氮气吹扫和循环结束时的氮晶片提升。
  • 微处理器控制并储存多种配方。
  • 直流无刷主轴电机变速。
  • DI水净化,营造无细菌系统。
  • 内置安全联锁和正极盖,运行期间锁定。

选项: 

  • 托盘,最大可装载8英寸晶片
  • 用于干燥的红外线加热灯
  • 消除静电的二氧化碳再生离子器
  • 内置排气鼓风机
  • 真空发生器

产品参数:

  • 产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统 
  • 型号:SCS112
  • 可用机械臂:1
  • 最大基板尺寸:高达8英寸的晶圆片
  • 最大主轴速度:2500
  • 配方:最多3
  • 分配:1
  • 尺寸:26英寸宽x 21英寸深x 40英寸高
  • 重量:约200
  • 功率:220伏交流电,10安培,50/60赫兹

手动型SCSe124

SCSe124型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe124可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe124具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。

功能:

  • 可处理直径高达10英寸的基板。
  • 主轴组件带有直流无刷电机(可升级以获得更多功能)。
  • 可调节机械臂速度和行程位置。
  • 径向排气腔,可实现最大层流。
  • 独立式聚丙烯腔室。
  • 微处理器可控制10个程序段。
  • 内置安全联锁。
  • 按钮盖启动 打开/关闭。
  • 触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告。
  • 最多可使用2个机械臂。

产品参数:

  • 产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统 
  • 型号:SCSe124
  • 可用机械臂:2
  • 最大基板尺寸:直径10英寸晶圆片
  • 最大主轴速度:2500
  • 配方:最多10
  • 分配:12

手动型SCSe126

SCSe126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe126可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe126具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。

功能:

  • 可处理直径高达10英寸的基板。
  • 主轴组件带有直流无刷电机(可升级以获得更多功能)。
  • 可调节机械臂速度和行程位置。

     径向排气腔,可实现最大层流。

     独立式聚丙烯腔室。

     微处理器可控制10个程序段。

     内置安全联锁。

     按钮盖启动 打开/关闭。

     触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告。

     最多可使用4个机械臂。

​产品参数:

  • 产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统 
  • 型号:SCSe126
  • 可用机械臂:4
  • 最大基板尺寸:直径10英寸晶圆片
  • 最大主轴速度:2500
  • 配方:最多10
  • 分配:12
产品相关关键字: 手动晶圆清洗系统 湿法显影掩膜版清洗 光掩膜版清洗 SCS112 亚微米级晶圆清洁

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