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  • EDC-650HZ-23NPPBLaurell-EDC匀胶显影机

    Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶,显影,刻蚀,冲洗,甩干等工艺,可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀,我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累,通过对各路试剂注射的控制,对氮气和去离子水综合应用,能够完整实现样片的干进干出。是当今*和经济的湿法处理解决方案。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-08
  • EDC-650MZ-23NPPBLaurell匀胶显影机EDC

    Laurell匀胶显影机EDC产于美国,是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚,成立于1985年,是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统,目前客户已遍布。还有WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-01
  • EDC-650HZ-23NPPEDC湿法刻蚀机

    EDC湿法刻蚀机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺,制版的表面显影。一般涂胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 (水)辊、涂胶槽等部分组成。

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    产品价格:面议
    厂商性质:代理商
    更新日期:2020-09-01
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