Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶，显影，刻蚀，冲洗，甩干等工艺，可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀，我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累，通过对各路试剂注射的控制，对氮气和去离子水综合应用，能够完整实现样片的干进干出。是当今*和经济的湿法处理解决方案。

Laurell匀胶显影机EDC产于美国，是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统，目前客户已遍布。还有WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。

EDC湿法刻蚀机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般涂胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 （水）辊、涂胶槽等部分组成。