设为主页 加入收藏 联系我们

当前位置:

目录导航 Directory

产品展示Products

产品图片 产品名称/型号 产品描述
  • SCS112/SCSe124/SCSe126湿法显影掩膜版清洗系统
    SCS112型是一款高效率手动型的湿法显影掩膜版清洗系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片,针对8英寸晶圆片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案,针对10英寸晶圆片。
  • CESx124UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统
    UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。
  • WS-1000MLaurell-WS半导体湿法刻蚀系列
    自1985年起,Laurell公司向遍布所有的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案,目前,全世界有超过15000套系统正在安全运行。WS-1000MLaurell-WS半导体湿法刻蚀系列,全白色聚丙烯构造,可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机,排放简便的入氮口和DI喷头,如果需要单工的系统,可选择WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000系列旋转处理湿法设备可以
  • WS-1000Laurell 湿法刻蚀设备
    自1985年起,Laurell湿法刻蚀设备是生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案,目前,全世界有超过15000套系统正在安全运行。
  • EDC-650HZ-23NPPBLaurell-EDC匀胶显影机
    Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶,显影,刻蚀,冲洗,甩干等工艺,可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀,我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累,通过对各路试剂注射的控制,对氮气和去离子水综合应用,能够完整实现样片的干进干出。是当今Z高效和经济的湿法处理解决方案。
  • EDC-650MZ-23NPPBLaurell匀胶显影机EDC
    Laurell匀胶显影机EDC产于美国,是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚,成立于1985年,是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统,目前客户已遍布全球。还有WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。

共 7 条记录,当前 1 / 2 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话:4008800298
点击这里给我发消息
 
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站