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显影机DEVELOPER
晶圆显影机的用途包括:
光刻工艺:在半导体制造中,光刻工艺是一种关键的工艺步骤,用于在晶圆表面形成微细的图案,以定义电路和器件的结构。晶圆显影机用于对光刻胶进行显影处理,形成所需的图案。
芯片制造:晶圆显影机也用于芯片制造过程中的显影步骤,帮助形成芯片上的电路图案和结构。
微纳加工:除了半导体制造,晶圆显影机还可以应用于微纳加工领域,用于制造微米级甚至纳米级的器件和结构。
显影机在半导体制造和微纳加工领域起着至关重要的作用,帮助实现微电子元件的精密制造和微米级结构的加工。
1. UNIXX D20 高级版
(直径200mm)带有可移动飞溅环的独立系统,用于手动装载/卸载单个基材。
2.UNIXX D30标准
(Ø300毫米)单机系统为用户提供
在科学方面,以及具有高效、安全和清洁系统的研究。
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