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  • LCS半自动旋涂显影刻蚀机
    LCS专为晶圆和平面基片的半自动旋涂和开发而设计,将是试点项目、研究所和研发的最佳选择。 它保证了高均匀性和可重复性以及简单的操作和维护。 它可以处理最大 150 毫米的晶圆或最大 125x125 毫米的方形基片。

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