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  • PlasmaStar 200/200 RIE等离子刻蚀机
    PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。腔室材料是硬质阳极氧化铝,有几种不同的电极设计,包括用于反应离子刻蚀(RIE)和平面处理的水冷平板电极,用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极,用于最小化离子损伤的下游电极,和用于普通的圆柱形笼式电极。
  • PlasmaStar 100/100 RIE反应离子刻蚀机PlasmaStar 100
    仪器介绍 PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料,拥有多种腔室和电极配置,可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小,用于各种等离子工艺的模块化腔室和电极配置。此外,触摸屏计算机控制,多级程序控制和组件控制,操作简单。PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的独特功能。
  • PlasmaSTAR® 100/200等离子处理系统
    PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料。PlasmaSTAR®系统拥有多种腔室和电极配置,可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。

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