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  • 纳米压印光刻胶
    公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料,热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品,如模板防粘剂、基片增粘剂等。
  • 2035/2050/2075/2100光刻胶SU-8 2000
    SU-82000是一种高对比度,基于环氧的光致抗蚀剂,设计用于微加工和其他微电子应用,需要厚,化学和热稳定的图像。SU-82000是SU-8的改进配方,多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥,极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。SU-82000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。
  • 3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻胶
    SU-83000是一种高对比度,基于环氧的光刻胶,专为微加工和其他微电子应用中, 需要化学和热稳定的图像。SU-83000是SU-8和SU-82000的改进配方,已被广泛采用 由MEMS生产商使用多年。SU-83000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。 SU-83000的粘度范围允许膜厚为4至单层涂层厚度为120µm。
  • 2005/2010/2025光刻胶SU-8 2000
    SU-82000是一种高对比度,基于环氧的光致抗蚀剂,设计用于微加工和其他微电子应用,需要厚,化学和热稳定的图像。SU-82000是SU-8的改进配方,多年来已被MEMS生产商广泛使用。使用更快干燥,极性更大的溶剂系统可改善涂层质量并提高工艺产量。SU-82000有十二种标准粘度。通过单道涂覆工艺可以实现0.5至200微米的膜厚。使膜的暴露的和随后热交联的部分不溶于液体显影剂。
  • 美国Futurrex光刻胶
    Futurrex成立于1985年,是美国高端光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称,从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有:Ti、半导体、HP、SHARP、3M、UniversalDisplay、ETC、LG、Qualcomm(高通)等。Futurrex长期与Intel实验室合作,产品被广泛收录进美国各大学半导体教程,是各大研究机构产品。
  • PR3、PR41Futurrex去胶液
    Futurrex成立于1985年,是美国高端光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称,从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有:Ti、半导体、HP、SHARP、3M、UniversalDisplay、ETC、LG、Qualcomm(高通)等。Futurrex长期与Intel实验室合作,产品被广泛收录进美国各大学半导体教程,是各大研究机构产品。

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