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  • 2023

    8-20

    MicroChem光刻胶是一种用于微纳米制造的关键材料。它是一种可塑性高分子材料,广泛应用于半导体、光学元件和微系统等领域。光刻胶具有优异的光学特性、化学稳定性和机械强度,为微纳米制造提供了重要支持。光刻胶的主要成分包括光敏剂、聚合物基质和溶剂。其中,光敏剂是实现图案化的关键成分。在曝光过程中,光敏剂吸收光能并引发化学反应,从而使光刻胶发生物理或化学变化。聚合物基质则提供了光刻胶的机械强度和化学稳定性。溶剂则用于调节光刻胶的黏度和涂覆性能。MicroChem光刻胶的工艺流程通...

  • 2023

    7-23

    3850压实密度仪是一种常见的实验室设备,用于测量土壤、矿石和混凝土等材料的压实密度。在土壤科学、矿石工业、混凝土工程和材料科学等领域有广泛应用,为相关研究和工程实践提供了重要的技术支持。3850压实密度仪工作原理:1.准备工作:根据需要,选择合适的样品和模具。通常情况下,样品是土壤、矿石或混凝土等材料。2.加样:将待测样品放入模具中,并确保样品填充均匀且没有空隙。3.施加压力:启动压实密度仪,使其施加标准化的压力到样品上,压实样品。4.测量体积:通过测量样品在压实前后的体积...

  • 2023

    5-21

    MicroChem光刻胶是一种可塑性高分子(聚合物)材料,通过紫外线曝光进行化学反应形成图案。光刻胶通常是涂覆在硅片或其他衬底表面的薄膜,其厚度可以从几个纳米到数百微米不等。刻蚀过程中,光刻胶起到保护衬底或已刻蚀部分不受刻蚀剂侵蚀的作用,从而形成所需的结构。MicroChem光刻胶类别:MicroChem生产多种类型的光刻胶,包括正/负光刻胶和超临界流体光刻胶等。其中常用的是正/负光刻胶。正/负光刻胶:正/负光刻胶基于光敏聚合物的化学反应类型不同,可以分为正光刻胶和负光刻胶。...

  • 2023

    4-23

    NXQ4006光刻机是一种高精度半导体制造设备,用于制造微型电子元件。该设备结合了光学和机械技术,能够进行高精度的芯片图案转移。采用了*光刻技术,能够将芯片的图案准确地刻在硅片上。硅片表面通过化学处理、光致电荷分离和电子束曝光等步骤,形成模板,然后利用紫外激光等精确照射,从而印在硼硅玻璃板上。硼硅玻璃板会与硅片结合,形成芯片。采用了高精度运动控制系统,可以实现很高的精度和稳定性,在制造微型电子元件中起着非常重要的作用。这种设备还能够处理大量的芯片,提高生产效率。NXQ4006...

  • 2023

    3-19

    WABASH平板硫化机主要用于硫化平型胶带(如输送带、传动带,简称平带),它具有热板单位面积压力大,设备操作可靠和维修量少等优点。平板硫化机的主要功能是提供硫化所需的压力和温度。压力由液压系统通过液压缸产生,温度由加热介质(通常为蒸汽)所提供。平带平板硫化机按机架的结构形式主要可分为柱式平带平板硫化机和框式平带平板硫化机两类;按工作层数可有单层和双层之分:按液压系统工作介质则可有油压和水压之分。WABASH平板硫化机的维护保养时应注意以下问题:1、硫化机存放环境应保持干燥、通...

  • 2023

    2-5

    德国Unitemp高温退火炉主要用于高速钢、冷热模具钢、不锈钢、弹性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理、真空钎焊和真空烧结。快速退火炉结构特点:加热室采用不锈钢框架,隔热罩为多层石墨毡,使用寿命长,维护方便。采用石墨管加热器,安装维护方便,故障率低。德国Unitemp高温退火炉的详情:1、改善或消除铸钢、锻、轧、焊等造成的各种结构缺陷和残余应力,防止工件变形、开裂。2、软化工件进行切削加工。3、细化晶粒,改善组织,提高工件的力学性能。4、为最终热处理(淬火、回火)准...

  • 2022

    11-26

    NOVASCAN紫外臭氧清洗机是一种采用无接触方式,在空气中进行且在清洗后不必进行干燥。在清洗过程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态,气相物质被吸附在固体表面,被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子,产物分子解析形成气相,反应残余物脱离表面。NOVASCAN紫外臭氧清洗机使用注意事项:1、严格按机器规定加工范围内加工木料,否则将导致机器损坏和工作人员伤害。2、本设备必须由经过培训的...

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