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  • 2020

    10-23

    硅片清洗机的特点:1.概述主要用于对表面有油污的单/多晶硅片进行超声波振荡清洗.2.组成设备基本由六-十个清洗槽构成。3.控制设备操作方便,清洗工作过程带时间控制.4.装片每槽可装载多个花篮,晶片放在清洗花篮内(25片/篮)。5.超声波振荡清洗过程水温可根据需要设置加热管,清洗功率与超声频率可根据需要调整.6.槽体材料可选用PTFE、PVDF、PP和不锈钢等.7.PLC控制,触摸屏操作面板.8.多种工作模式:全自动、半自动、手动等.9.实时状态显示及故障报警硅片清洗机的使用注...

  • 2020

    9-21

    首先检查平板硫化机是否完好,运行是否正常,然后安装好模具。打开电源,设定硫化时间、压力、排气等参数,设置温度并打开温控预热,达到设定温度后,(多延长一段时间,确保模具温度达到温度),打开模具,投入定量胶料,按启动即可。WABASH平板硫化机注意事项1.硫化机在使用前需要检查液压油量,液压油高度为下机座的2/3的高度,油量不足时应及时添加, 油液注入前必须精细过滤。2.油液需要定期排除并进行沉淀过滤后再使用,同时清洗滤油器。3.操作压力不可超过额定的压力。4.模具尺寸...

  • 2020

    7-23

    在晶圆划片机划切过程中,晶圆在划切时需要固定在吸盘上。在吸盘的表面加工有吸附槽,通过使吸附槽内产生低压真空以将晶圆吸附在吸盘表面。由于划切过程中主轴在高速的旋转,刀片在划切晶圆时产生很大的切削力,所以晶圆的吸附需要非常的稳定和可靠。而现有的吸盘,存在吸附稳定性差的问题。吸盘的吸附力的大小将直接影响到真空吸附的稳定性,而吸附力的大小与吸盘表面设置的吸附槽的大小及形状、布局等有关。并且,如果吸附槽中落入杂质,不能及时进行清理的话,将会影响真空吸附力,从而影响吸附稳定性。而现有的吸...

  • 2020

    6-22

    等离子去胶机进行去胶操作十分的简单,并且效率高,去胶后的表面干净光洁、没有任何的划痕、成本低、环保。电介质等离子体去胶机在进行刻蚀时,一般会被应用在电容耦合等离子体平行板反应器上,在平行板反应器中,反应离子刻蚀腔体所采用的是阴极面积小,阳极面积大的不对称设计,而需要被刻蚀的物件则是被放置到面积较小的电极之上。在进行刻蚀操作时,其射频电源所产生的热运动会使质量小、运动速度快的带负电自由电子很快到达阴极,而正离子则是由于质量大、速度慢而很难在同一时刻达到阴极,从而就会在阴极附近形...

  • 2020

    5-20

    等离子清洗机的效果与特点(1)清洗后的材料表面基本没有残留物,并且可以通过选择、搭配不同的等离子体清洗类型,产生不同的清洗效果,满足后续处理工艺对材料表面特性的多种需求;(2)由于等离子体的方向性不强,因此方便清洗带有凹陷、空洞、褶皱等复杂结构的物件,适用性较强;(3)可处理多种基材,对待清洗物件的要求较低,因此特别适合清洗不耐热和溶剂的基体材料;(4)清洗过后无需干燥或其他工序,无废液产生,同时其工作气体排放无毒害,安全环保;(5)操作简便、易控、快捷,对真空度要求不高或可...

  • 2020

    4-19

    MicroChem光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。MicroChem光刻胶应用范围:广泛应用于集成电路,封装,微机电系统,光电子器件光子器件,平板显示器,太阳能光伏等领域。主要技术参数1.灵敏度灵敏度是衡量曝光速度的指标。灵敏度越高,所需的曝光剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率(resolution)区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小,...

  • 2020

    3-20

    光学膜厚仪的优点1.非接触式测量采用的原理是通过光的反射原理对膜层厚度进行测量,属于非接触式测量方法,不会对样品造成任何损伤,能够保证样品的完整性。2.测量数据多样可以测得物体的膜厚度和n,k数据,这是其它类型的膜厚仪所不具备的特点。3.测量快速测量过程非常快速,因为该设备采用了先进的结构设计,能够极大程度的提升测量效率,相比于其他类型膜厚测量设备来说显得非常轻巧方便。4.适用范围广适用范围非常广泛,从普通家用到工厂的工业生产,再到大学实验室和科学研究所,都可以看到它的身影,...

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