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  • MPEM-1600掩膜曝光光刻机Mask Aligner MPEM-1600
    MYCRO原装进口荷兰光刻机(MaskAligner),是全球的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学等等。
  • MEMA-800掩膜曝光光刻机Mask Aligner MEMA-800
    MYCRO原装进口荷兰光刻机(MaskAligner),是全球的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学等等。
  • MSMA-1200M掩膜曝光光刻机Mask Aligner MSMA-1200M
    MYCRO原装进口荷兰光刻机(MaskAligner),是全球的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学等等。
  • MMA16掩膜曝光光刻机Mask Aligner MMA16
    MYCRO原装进口荷兰MMA16光刻机(MaskAligner),是全球的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦
  • MR200精密金刚石划线机MR200-德国OEG
    MYCRO原装进MR200手动晶圆划片机可精确切割结构化硅晶片,是理想工具-半导体技术的制造。MR200的设置和设备可为定义的结构化硅晶片切割提供高精度划线。MR200是必不可少的工具,特别是对于半导体技术中的REM制造。MR200还适用于少量芯片的单芯片化,例如在实验室中使用。
  • NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻机
    MYCRO原装进口美国恩科优NXQ系列光刻机(MaskAligner),是全球优越的光刻系统,在光刻领域有超过35年的经验,全球售出1000多套设备,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

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