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一、掩膜曝光光刻机Mask Aligner产品简介:
| MPEM-1600 | MPEM-12M | MPEM-16M | |
光罩尺寸 | 最多5英寸 | 最多7英寸 | 最多9英寸 | |
晶圆尺寸 | 高达4英寸(无定形) | 高达6英寸(无定形) | 高达8英寸(无定形) | |
面罩架滑动 | 手动卡盘 | |||
面具运动 | X =±3毫米,Y =±3毫米 | |||
接触 | 方法 | 软接触/硬接触/接近暴露 |
|
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照明 | 250W超高压蒸气汞灯 | 500W超高压蒸气汞灯 | ||
照明不规则 | ±5% | |||
有效接触面积 | 直径100毫米 | 直径150毫米 | 直径200毫米 | |
解析度 | 3mµ L / S | |||
对准 | 方法 | 目镜观察(精神领域系统) | 9英寸视频 监控系统 | |
物镜 | 10X两对(上/下) | |||
目镜 | NWF 10X(一对) | -- | ||
总放大倍率 | 100倍 | 200倍 | ||
物镜分离 | 15〜90毫米 | 80〜140毫米 | 55〜184毫米 | |
聚焦单元 | 手册 | |||
对准范围 | X,Y =±4mmθ | X,Y =±4mmθ | ||
对齐间隙 | 09〜99微米 | |||
对准精度 | 小于±5mm | |||
实用工具 | 主机电源 | 100-220V AC,50 / 60Hz,15A(600W) | ||
水银灯电源 | 100-220V AC,50 / 60Hz,15A(550W) | 100-220V,50 / 60Hz,15A(1,100W) | ||
氮气 | 0.4〜0.5兆帕 | 100-220V AC,50 / 60Hz,15A(1,100W) | ||
真空压力 | 小于21.3kPa | |||
尺寸(主机) | 750( 宽)x | 940( 宽)x | 1,200( 宽)x | |
净重 | 大约 450公斤 | 大约 550公斤 | 大约 700公斤 | |
选件 | NWF 15X目镜(一对) | -- |
MPEM-1600 | MPEM-12M | MPEM-16M |
(适用 | (适用 | (适用 |
*除上述以外,还提供电动MPEM-2000 / 4000型和全自动MPEM-8M / 12M型。
产品相关关键字: 光刻机 Mask Aligner 掩膜曝光光刻机 光刻系统 MPEM-1600 |