光刻机Mask Aligner

简要描述：MYCRO*荷兰光刻机（光刻机Mask Aligner），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。

产品型号：MEMA-800
厂商性质：代理商
更新时间：2020-09-16
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掩膜曝光光刻机

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详细介绍

光刻机分为半自动和全自动两大系列。MEMA-800是研发中心和大学中的微机开发。操纵器，压力传感器，加速度传感器，功率设备等。倒装芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光学/高速通信组件中。

二、技术参数：

1、目标分离：15〜75毫米；

2、总放大倍率：100倍；

3、观察照明器：红色LED（λ= 633 nm）；

4、X，Y平台移动范围：±5毫米；

5、θ调整：±5°

6、主体电源和水银灯：交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源：低于21.3 Kpa（大气压为-80 Kpa）

8、镜片：积分镜

9、汞灯：250W超高压蒸汽汞灯

10、有效接触面积：大φ100毫米

11、强度分布：±5％以下

12、照度：20 mW / cm 2 （405纳米）

13、曝光时间控制：数字计时器和旋转螺线管

14、汞灯照明装置：交流110V

三、产品特点：

经济，紧凑和高级性能
在视场中查看两个对准标记的融合图像。
用于曝光的积分镜。
LED照明器

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