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  • MPEM-1600掩膜曝光光刻机Mask Aligner
    MYCRO*荷兰光刻机(掩膜曝光光刻机Mask Aligner ),是的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。
  • MEMA-800光刻机Mask Aligner
    MYCRO*荷兰光刻机(光刻机Mask Aligner),是的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。
  • MMA16光刻机Aligner MMA
    MYCRO*荷兰(光刻机Aligner MMA16),是的光刻系统,为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统,广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体(LED)芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦

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