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MYCRO*荷兰（光刻机Aligner MMA16），是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦

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光刻机Aligner MMA产品概述：

一、产品简介：

MYCRO*荷兰MMA16光刻机（Mask Aligner)，是的光刻系统，为半导体制造和科研领域提供品质优良稳定的全波段紫外光刻机系统，广泛的应用于半导体光刻工艺制程、微机电MEMS、二极管芯片、发光二极体（LED）芯片制造、生物器件、纳米科技、显示面板LCD、光电器件、奈米压印以及电子封装等诸多领域。客户如美国航空航天公司、飞利浦、摩托罗拉、惠普、牛津大学、剑桥大学、斯坦福大学、伦敦大学等等。

光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中MMA16掩码对准器是一种高性能掩码对准器，已经过验证的组件设计。该系统是一个理想的经济选择研发，或有限的规模，试生产。我们采用了一种创新的系统，使基板快速而轻柔地拉平，在接触曝光过程中实现平行光掩模对准和在晶圆上均匀接触。该系统具有一微米的分辨率和校准精度。

MMA16的特点是一个可靠的紫外线光源，提供准直紫外线在近或深紫外光使用灯。双传感器、光反馈回路与恒定强度控制器相连，可将曝光强度控制在所需强度的±2%以内。可以快速而容易地改变UV波长。这是一个灵活，经济的解决方案，任何入门级口对准和紫外线曝光应用。

MMA16面罩对准器软件的特点是易于理解和Z越的人机工程学，减少了操作人员的培训时间，使其更容易与系统一起工作

二、技术参数：

1、光掩模的尺寸：5英寸大；

2、晶片大小：大4英寸(无定形)；

3、掩模架滑动：手动卡盘；

4、模板移动：X=±3mm, Y=±3mm；

5、曝光方法：支持接近式曝光，各种接触式（软接触/硬接触/间隙印刷/真空接触/低真空接触）曝光；

6、照明：250W超高压灯

7、照明不均匀性：±5%

8、有效接触面积：直径100毫米

9、分辨率：3mµL/S

10、对齐方法：通过摄像头查看

11、对齐物镜：10 x(上/下)

12、总放大倍率：100 x

13、物镜分离：15˜90毫米

14、对准范围：X,Y=±4毫米

15、对准间隙：99年09年µm

16、对准精度：小于±5毫米

17、主机电源：220/50Hz, 16A (600W)

18、氮气：0.4˜0.5 Mpa

19、真空压力：小于21.3kPa(大气压-80kPa)

20、主机尺寸：高度712mm×宽度700mm×深度 440mm

21、净重：约250Kg

三、产品特点：

高分辨率打印

高精度X,Y,对准台和显微镜操纵器

高强度光学配置

不同紫外线照射波长

低限度的操作员培训

人体工学操作

易于理解用户界面

易于进行所有组件的组装

掩模对准器

无需预热时间

价格低

产品相关关键字：光刻机掩膜曝光光刻机 Mask Aligner MMA16 光刻系统

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光刻机Aligner MMA

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