咨询热线

18971121198

当前位置:首页   >  产品中心  >  掩膜曝光光刻机  >  Mask Aligner光刻机  >  M-150和P-150韩国Mask Aligner光刻机

韩国Mask Aligner光刻机

简要描述:光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。

  • 产品型号:M-150和P-150
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-11-13
  • 访  问  量:1344

详细介绍

M-150

光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。M系列是用于光刻的掩模对准器。M-150专为6英寸晶圆设计,具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线光源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。


技术参数

类型

PLC手动控制系统

波长

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大7英寸

紫外光强度

15 ~ 25/ ㎠

基片尺寸

6英寸

紫外线光束均匀度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ㎛

接触模式

真空/硬/软/接近

对准精度

1 ㎛

显微镜

CCD变焦显微镜

紫外灯和电源

350W

选配项

Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA


P-150

光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。P-150专为6英寸晶圆设计,具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。


技术参数

类型

触摸屏PC手动控制系统

波长

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大7x7英寸

紫外光强度

15 ~ 25/ ㎠

基片尺寸

6英寸

紫外线光束均匀度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ㎛

接触模式

真空/硬/软/接近

对准精度

1 ㎛

显微镜

CCD变焦显微镜

紫外灯和电源

350W

选配项

IR BSA, CCD BSA


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
迈可诺技术有限公司
  • 联系人:叶盛
  • 地址:洪山区珞狮南路147号未来城A栋
  • 邮箱:sales@mycroinc.com
  • 传真:
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有©2024迈可诺技术有限公司All Rights Reserved    备案号:    sitemap.xml    总访问量:477852
管理登陆    技术支持:化工仪器网