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韩国Mask Aligner光刻机

简要描述:光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。

  • 产品型号:M-150和P-150
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2022-01-11
  • 访  问  量:533

详细介绍

M-150

光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。M系列是用于光刻的掩模对准器。M-150专为6英寸晶圆设计,具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线光源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。


技术参数

类型

PLC手动控制系统

波长

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大7英寸

紫外光强度

15 ~ 25/ ㎠

基片尺寸

6英寸

紫外线光束均匀度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ㎛

接触模式

真空/硬/软/接近

对准精度

1 ㎛

显微镜

CCD变焦显微镜

紫外灯和电源

350W

选配项

Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA


P-150

光刻是一种将图案从玻璃光掩模转移到半导体或玻璃基板上的光学技术。P-150专为6英寸晶圆设计,具有硬接触、软接触、真空接触三种接触方式。曝光器有一个350W的紫外线源。365nm处的光功率为25mW/cm 。可用于商业半导体制造或大学实验室晶圆制造以及MEMS领域。


技术参数

类型

触摸屏PC手动控制系统

波长

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大7x7英寸

紫外光强度

15 ~ 25/ ㎠

基片尺寸

6英寸

紫外线光束均匀度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ㎛

接触模式

真空/硬/软/接近

对准精度

1 ㎛

显微镜

CCD变焦显微镜

紫外灯和电源

350W

选配项

IR BSA, CCD BSA


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