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为了获得最大的过程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蚀剂之前,基材应清洁干燥。 为了获得很好的结果,应使用食人鱼湿法蚀刻(使用H2SO4和H2O2)清洁基材,然后用去离子水冲洗。
基材也可以使用反应离子蚀刻进行清洁
(RIE)或任何装有氧气的桶式灰烬。 通常不需要粘合促进剂。 对于包括电镀的应用,建议使用MCC Primer 80/20(HMDS)对基材进行预处理。
涂层
SU-8 2000抗蚀剂有十二种标准粘度。 本加工指南文件涉及四种产品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。图1。
提供选择合适的SU-8 2000抗蚀剂和旋转条件以实现所需膜厚所需的信息。
推荐节目
1.)为基板直径的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蚀剂。
2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋转5-10秒。
3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋转30秒。
产品相关关键字: 光刻胶 SU-8胶 光敏胶 |