咨询热线

18971121198

当前位置:首页   >  产品中心  >  光刻胶  >  Futurrex光刻胶  >  ma-N 2400、mr-EBLMicro Resist电子束及深紫外光刻胶

Micro Resist电子束及深紫外光刻胶

简要描述:德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。

  • 产品型号:ma-N 2400、mr-EBL
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2019-08-08
  • 访  问  量:1081

详细介绍

德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束刻蚀胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。

ma-N 2400系列   

电子束和深紫外曝光 

电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,*的抗干刻、湿刻性能;胶图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-50 nm以下;碱性水溶液下显影;

mr-EBL 6000

电子束曝光

电子束和深紫外灵敏;非常适合作为刻蚀掩模,*的抗干刻、湿刻性能;光胶图案良好的热稳定性;优异的图案分辨率-80 nm以下;碱性水溶液下显;

 

产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
迈可诺技术有限公司
  • 联系人:叶盛
  • 地址:洪山区珞狮南路147号未来城A栋
  • 邮箱:sales@mycroinc.com
  • 传真:
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有©2022迈可诺技术有限公司All Rights Reserved    备案号:    sitemap.xml    总访问量:414849
管理登陆    技术支持:化工仪器网