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Dake压片机 |
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光学试剂 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
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碳纸 |
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冻干机 |
剥离器 |
紫外掩膜曝光系统 |
品牌:恩科优(N&Q)
产地:美国
恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的*;
二、技术参数:
1、芯片尺寸:5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);
2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);
3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);
4、分辨率:优于0.5um;
5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;
6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;
7、支持恒定光强或恒定功率模式;
8、曝光时间:0.1~999.9s;
9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;
10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器);
11、光强均匀性Uniformity:
<±1% over 2” 区域;
<±2% over 4” 区域;
<±3% over 6” 区域;
12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm;
13、电源:高灵敏度光强可控电源。
可选型号:
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、产品特点:
可选支持单面对准和双面对准设计;
高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);
高清彩色双显示屏;
全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;
具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;
操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;
操控手柄调控模式的独特设计;
采用LED穿透物镜照明技术,具有*对准亮度;
采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;
抗衍射反射的高效光学光路设计;
带安全保护功能的温度和气流传感器;
全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;
设备稳定性,耐用性超高;
http://v.youku.com/v_show/id_XMzM2NzUyODYw.html
产品相关关键字: 紫外曝光系统 掩膜对准曝光机 紫外曝光机 曝光系统 光刻系统 |