| 匀胶机/匀胶旋涂仪 |
| 湿法刻蚀显影清洗系统 |
| 掩膜曝光光刻机 |
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Mask Aligner系列 |
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NXQ系列 |
| 狭缝涂布仪 |
| 烤胶机/热板 |
| 快速退火炉 |
| 纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
| 紫外臭氧清洗机 |
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| 等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
| 超声波清洗机 |
| 等离子去胶机 |
| 探针台 |
| 光学膜厚仪 |
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| 压片机/液压机 |
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等静压机 |
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标准型实验室压片机 |
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加热型手动压片机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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层压机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
| 制样机 |
| 手持式表面分析仪 |
| 接触角测角仪 |
| 干冰清洗机 |
| 注射泵 |
| 显微镜检测系统 |
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| 光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
| 韩国波导树脂 |
| 环氧树脂 |
| 钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
| 光刻胶 |
| 碳纸碳布 |
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碳纸 |
| 防潮箱 |
| 马弗炉 |
| 培养箱 |
| 蠕动泵 |
| 热循环仪 |
| 离心机 |
| 手套箱 |
| 天平 |
| 键合机 |
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JFP引线键合机 |
| 紫外交联仪 |
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UVP紫外交联仪 |
| 膜厚监测仪 |
| 离子溅射仪 |
| 搅拌脱泡机 |
| 椭偏仪 |
| 自动涂膜器 |
| 分光光度计 |
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红外光谱仪 |
| 点胶机 |
| 喷涂机 |
| 晶圆片 |
| 密度测试仪 |
| 临界点干燥仪 |
| 光谱仪 |
| 太阳光模拟器 |
| 干燥机 |
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旋转冲洗干燥机 |
| Norland胶水 |
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光学胶 |
| 超声喷涂机 |
| 真空回流焊炉 |
| 过滤器 |
| 切割机 |
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晶圆切割机 |
特点：
▪ 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理
▪ 低于10纳米分辨率，产率高达99％
▪ 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量增大
▪ 支持各种类型的硬模和软模
▪ 可变模具和基材尺寸，灵活方便
▪ 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面
▪ 对准功能选项
▪ 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等
▪ 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容
PL600
基材尺寸，6“标准（尺寸较小，形状不规则）
印记区： 与晶圆尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
压印压力: 1 psi标准
模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外线曝光时间:在95％强度水平下2-3分钟
对准功能: x，y，z和theta（精度2um）
| 产品相关关键字： 纳米压印机PL400/600 紫外曝光纳米 紫外曝光纳米光刻机 NIL光刻机 紫外曝光纳米压印系统 |
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