匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
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纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
紫外臭氧清洗机 |
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等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
超声波清洗机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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帝王型实验室压片机 |
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层压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
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ASTM专用压片机 |
制样机 |
手持式表面分析仪 |
接触角测角仪 |
干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
光学试剂 |
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Naphrax 硅藻胶 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille校准液 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
韩国波导树脂 |
环氧树脂 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
碳纸碳布 |
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碳纸 |
防潮箱 |
马弗炉 |
培养箱 |
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离心机 |
手套箱 |
天平 |
键合机 |
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JFP引线键合机 |
紫外交联仪 |
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UVP紫外交联仪 |
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离子溅射仪 |
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椭偏仪 |
自动涂膜器 |
分光光度计 |
点胶机 |
喷涂机 |
晶圆片 |
特点:
▪ 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理
▪ 低于10纳米分辨率,产率高达99%
▪ 一步自动释放功能,可防止分离过程中模具/基材损坏,使压印产量最大化
▪ 支持各种类型的硬模和软模
▪ 可变模具和基材尺寸,灵活方便
▪ 可编程PLC,通过自定义参数进行过程控制,带触摸屏用户界面
▪ 对准功能选项
▪ 多种工艺,适用于各种应用光学器件,显示器,数据存储,生物医学器件,半导体IC,化学合成和先进材料等
▪ 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制,并且与传统的光刻工艺兼容
PL600
基材尺寸,6“标准(尺寸较小,形状不规则)
印记区: 与晶圆尺寸相同。
模板尺寸 6”,4” ,2” and 1”
压印压力: 1 psi标准
模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具
紫外线曝光时间:在95%强度水平下2-3分钟
对准功能: x,y,z和theta(精度2um)
产品相关关键字: 纳米压印机PL400/600 紫外曝光纳米 紫外曝光纳米光刻机 NIL光刻机 紫外曝光纳米压印系统 |