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纳米压印机PL600

型    号:PL600
报    价: 市场价:
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EZI UV Nanoimprint System PL600
EZI 紫外曝光纳米压印系统
EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统:PL系列400/600.
EZImprinting是一种超高产率(> 99%)纳米压印光刻系统,带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。

纳米压印机PL600产品概述:

特点:

全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理

低于10纳米分辨率,产率高达99

一步自动释放功能,可防止分离过程中模具/基材损坏,使压印产量最大化

支持各种类型的硬模和软模

可变模具和基材尺寸,灵活方便

可编程PLC,通过自定义参数进行过程控制,带触摸屏用户界面

对准功能选项

多种工艺,适用于各种应用光学器件,显示器,数据存储,生物医学器件,半导体IC,化学合成和先进材料等

专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制,并且与传统的光刻工艺兼容

PL600

基材尺寸,6“标准(尺寸较小,形状不规则)

印记区:  与晶圆尺寸相同。

模板尺寸  6”,4” ,2” and 1”

压印压力: 1 psi标准

模具/基材自动释放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外线曝光时间:95%强度水平下2-3分钟

对准功能: xyztheta(精度2um

产品相关关键字: 纳米压印机PL400/600 紫外曝光纳米 紫外曝光纳米光刻机 NIL光刻机 紫外曝光纳米压印系统

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