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CNI v3.0小型纳米压印机

简要描述:CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,软件用户可以*控制压印过程。

  • 产品型号:CNI v3.0
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-11-12
  • 访  问  量:2185

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详细介绍

特色:

  • 体积小巧,容易存放,桌面型;
  • 轻微复制微米和纳米级结构;
  • 热压印温度高达200
  • 可选的高温模块,适用于250
  • UV纳米压印,365nm曝光
  • 可选的UV模块,适用于405nm曝光;
  • 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);
  • 纳米压印压力高达11bar
  • 温度分布均匀、读数精准;
  • 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,*灵活控制,自动记录数据;
  • 直径大210mm(圆形)腔室;
  • 腔室高度为20mm
  • 即插即用
  • 使用简单直观
  • 专为研发而设计
  • 提供安装和操作教程视频

 

在过去的五年中,基于石墨烯的气体传感器引起了很大的兴趣,显示出了单分子检测的优势。 近的研究表明,与未构图的层相比,构图石墨烯可大大提高灵敏度.

通过标准程序生长CVD石墨烯,然后转移到Si/SiO 2模板上进行进一步处理。 如(Mackenzie,2D Materials,使用物理阴影掩模和激光烧蚀来定义接触和器件区域。

使用软压印在CNI v2.0中进行热纳米压印光刻,将mr-I7010E压印抗蚀剂在130℃,6bar压力下压印10分钟,压力在70℃下释放。

通过反应离子蚀刻将边缘到边缘间隔为120-150nm的大面积图案的孔转移到石墨烯中,并且用丙酮除去残留的抗蚀剂。

发现器件具有大约的载流子迁移率发现器件在加工前具有约2000cm2/Vs的载流子迁移率,之后具有400cm2/Vs的载流子迁移率处理,同时保持整体低掺杂水平。

 

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