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NIL纳米压印PL系列

简要描述:EZ Imprinting推出了一款台式独立NIL纳米压印PL系列系统:PL系列400/600.
EZImprinting是一种超高产率(> 99%)纳米压印光刻系统,带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。
该平台提供具有微定位夹具的机械平台,用于安装纳米压印室,UV固化源和对准显微镜。
它即可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的掩模对准器,同时提供可编程的自动控制功能。

  • 产品型号:PL400
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-05-16
  • 访  问  量:2459

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详细介绍


EZI UV Nanoimprint System PL400

特点:

全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理

低于10纳米分辨率,产率高达99

一步自动释放功能,可防止分离过程中模具/基材损坏,使压印产量增大

支持各种类型的硬模和软模

可变模具和基材尺寸,灵活方便

可编程PLC,通过自定义参数进行过程控制,带触摸屏用户界面

对准功能选项

多种工艺,适用于各种应用光学器件,显示器,数据存储,生物医学器件,半导体IC,化学合成和*材料等

专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制,并且与传统的光刻工艺兼容

EZ Imprinting处理器参数:

基材尺寸:  4“标准(尺寸较小,形状不规则)

印记区 :   与晶圆尺寸相同。

模板尺寸   4”,2” and 1”

 

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