Nanonex纳米压印光刻机是一种先进的半导体制造设备，用于生产具有纳米级别分辨率的微纳结构。这种技术是传统光刻技术的补充，提供了一种成本效益高、生产效率高的制造方法，特别适用于生产高密度存储介质、微光学元件、生物芯片和微机电系统（MEMS）等。纳米压印光刻技术（NIL）是一种物理压印过程，通过物理接触将纳米级别的图案从一个硬质模板（压印模板）转移到软质的聚合物层上。纳米压印光刻机采用高精度的机械系统和控制系统，确保压印过程的精确性和均匀性。在压印过程中，聚合物层被加热至其玻...

等离子清洗机常用的工艺气体有氧气、氩气、氮气、压缩空气、二氧化碳、氢气、四氟化碳等。它是将气体电离产生等离子体对工件进行表面处理,无论是进行清洗还是表面活化,为达到最佳的处理效果会选用不同的工艺气体,那么等离子清洗机的常用工艺气体又该如何选择呢?1.氧气氧气是等离子清洗常用的活性气体,属于物理+化学的处理方式,电离后产生的离子体能够对表面进行物理轰击,形成粗糙表面。同时高活性的氧离子能够与被断键后的分子链发生化学反应形成活性基团的亲水表面,达到表面活化的目的;被断键后的有机污...

空·穴·传·输·层.201Spiro-OMeTADSpiro-OMeTAD是PSC中常用的空穴传输层之一。它定期生产高效PSC，并用于当前的世界器件8。Spiro-OMeTAD可以进行纯溶液处理，没有退火步骤，这意味着它可以在低温下轻松处理。事实上，Spiro-OMeTADHTL已被证明与大规模钙钛矿生产兼容，DiGiacomo等人创建了超过10%PCE的15cm²的器件12，Kim等人的研究表明，采用卷到卷工艺创建的Spiro-OMeTAD器件的PCE高达13.8%13。然...

太阳光模拟器01太阳辐射的基础知识太阳的表面温度约为5800K，这意味着太阳辐射的电磁频谱与5800K的黑体相似，但它包含了精细的结构，这是由于太阳外围的冷气体吸收(Fraunhofer线)。当太阳与地球相距1个天文单位(地球-太阳平均距离为149,597,890km)时，地球外层大气的太阳辐照度为1360Wm-2。这个值称为太阳常数，是整个电磁光谱的总体辐照度。图1显示了地球大气层外太阳辐射的电磁光谱，所示的范围为200—2500nm，包括到达地球的总辐照度的96.3%，其...

美国CARVER热压机是一种广泛应用于材料科学、生产制造业以及研究领域的设备，主要用于材料复合、层压、粘合和热压成型等工艺。CARVER热压机以其精确的温度控制、均匀的压力分布和操作简便性著称，适用于从实验室小样品制备到批量生产的多种应用。通过加热板对材料施加热量和压力，从而实现材料的复合、成型或粘合。设备通常配备有温度控制系统，能够精确调节加热板的温度，同时通过液压或机械方式施加压力。在设定的时间和温度下，材料在压力作用下完成所需的工艺过程。美国CARVER热压机的构造：1...

Nanonex纳米压印光刻机是一种利用纳米压印技术来制造微小图案和结构的革命性设备。这种技术因其高效率、低成本以及能够生产出传统光刻技术难以实现的极小尺寸结构而受到关注。使用具有纳米级图案的硬质模板（通常由硅或镍制成），将其直接压入涂有可塑性聚合物的基片上。这个过程在加热或紫外线照射的条件下进行，使聚合物软化并填充模板中的空腔。随后冷却或停止照射，聚合物硬化，模板从基片上脱模，留下与模板相反的图案。Nanonex纳米压印光刻机的主要组件：1.模板或印模：这是一块经过精密加工、...