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应用： 芯片封装，工业应用，医学应用等，是小尺寸实验室R&D 或小规模生产的理想选择。
自1985年起，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，*有超过15000套系统正在安全运行。WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列，全白色聚丙烯构造，可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机，排放简便的入氮口和DI喷头，如果需要单工的系统，可选择WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000系列旋转处理湿法设备可以
自1985年起，Laurell 湿法刻蚀设备是生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，*有超过15000套系统正在安全运行。
PPC等离子去胶机是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。 产品特色 负载循环控制，模拟功率控制 处理机存储 水冷底座 减少污水排放 安全保护设计 操作简便 维护方便
MYCRO的SCE-110系列Anatech ICP等离子刻蚀机是用于等离子体灰化工艺的Z有效仪器。SCE-110等离子灰化机用于残留无机物的扫描电镜（SEM）和或化学分析之前的有机物去除。适用设备如：SCE-104, 106, 108。
Harrick小型等离子刻蚀机是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。
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