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Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列

型    号:WS-1000M
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自1985年起,Laurell公司向遍布所有的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案,目前,全世界有超过15000套系统正在安全运行。WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列,全白色聚丙烯构造,可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机,排放简便的入氮口和DI喷头,如果需要单工的系统,可选择WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000系列旋转处理湿法设备可以

Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列产品概述:

    WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列,全白色聚丙烯构造,可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机,排放简便的入氮口和DI喷头,如果需要单工的系统,可选择WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试模块构造,安装简便,易于拆卸,更便于操作者控制。

一、半导体湿法刻蚀设备功能:
● 涂敷Coating
● 刻蚀Etching
● 显影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可选配, Sulfuric硫化物 / Peroxide双氧水,溶液处理(insitu mixing)
● 可选配, HBr溶液处理
● 带温控的显影功能
● 冲洗甩干

二、半导体湿法刻蚀设备特点:
● 全PP材质构造
● 可集成Laurell匀胶旋涂系统
● 有排孔的湿站操作台 (易清洁)
● 特殊设计的湿站压力系统Wet plenum
● 带流量计的排液管道
● 各类组件的隔离设计(散热原件,泵浦和压力容器等)

三、半导体湿法刻蚀设备材料选择:
可以根据应用选择更高级的材料;
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能,耐化学药品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合严格的FMRC 4910测试标准,满足多方面条件下的难燃性,自熄特点和彻底燃烧。这种先进的材料也达到或超过产生低烟和小毒副产品的检测标准。

产品相关关键字: 湿法腐蚀设备 湿法制程工作台 湿法刻蚀机 硅片刻蚀机 硅片清洗机

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