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WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列,全白色聚丙烯构造,可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机,排放简便的入氮口和DI喷头,如果需要单工的系统,可选择WS-1000湿法刻蚀设备,WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试模块构造,安装简便,易于拆卸,更便于操作者控制。
一、半导体湿法刻蚀设备功能:
● 涂敷Coating
● 刻蚀Etching
● 显影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可选配, Sulfuric硫化物 / Peroxide双氧水,溶液处理(insitu mixing)
● 可选配, HBr溶液处理
● 带温控的显影功能
● 冲洗甩干
二、半导体湿法刻蚀设备特点:
● 全PP材质构造
● 可集成Laurell匀胶旋涂系统
● 有排孔的湿站操作台 (易清洁)
● 特殊设计的湿站压力系统Wet plenum
● 带流量计的排液管道
● 各类组件的隔离设计(散热原件,泵浦和压力容器等)
三、半导体湿法刻蚀设备材料选择:
可以根据应用选择更高级的材料;
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能,耐化学药品性和耐火性。
● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合严格的FMRC 4910测试标准,满足多方面条件下的难燃性,自熄特点和彻底燃烧。这种先进的材料也达到或超过产生低烟和小毒副产品的检测标准。
产品相关关键字: 湿法腐蚀设备 湿法制程工作台 湿法刻蚀机 硅片刻蚀机 硅片清洗机 |