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SCE射频等离子清洗系统 |
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Dake压片机 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
| 钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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碳纸 |
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| 水浴油浴 |
| 蒸发器 |
| 冻干机 |
| 剥离器 |
| 紫外掩膜曝光系统 |
PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。
产品特色
负载循环控制，模拟功率控制
处理机存储
水冷底座
减少污水排放
安全保护设计
操作简便 维护方便
应用范围：
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体元器件
光刻胶去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
适用工艺：
打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫；
去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；
塑胶密封剂去除--失效模式分析
型号 | PPC862 | PPC973 |
反应舱尺寸(H*W*D) | 203mm x 152 mm x 50mm | 229 x 178 x 76 mm |
冷却面(H*W) | 203 mm x 152 mm | 229 mm x 178 mm |
反应舱 | 方形舱体 | 方形舱体 |
反应舱材质 | 派热克斯玻璃&铝材 | 派热克斯玻璃&铝材 |
水冷式 | 水冷装置 | 水冷装置 |
负载比 | 10%至连续性 | 10%至连续性 |
标准流量 | 5cu-ft./Hr.@STP | 5cu-ft./Hr.@STP |
频率(GHz) | 2.45 GHz | 2.45 GHz |
功率(Watts) | 100至750之间调节 | 100至750之间调节 |
重量 (Kg) | 29.5kg | 38.5kg |
真空泵系统 | 抽气速率3.8cfm/分 | 抽气速率3.8cfm/分 |
| 产品相关关键字： 微波等离子清洗机 2.45GHz等离子清洗机 等离子去胶机 等离子清洗机 等离子刻蚀机 |
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