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Anatech ICP等离子刻蚀机

简要描述:MYCRO的SCE-110系列Anatech ICP等离子刻蚀机是用于等离子体灰化工艺的Z有效仪器。SCE-110等离子灰化机用于残留无机物的扫描电镜(SEM)和或化学分析之前的有机物去除。适用设备如:SCE-104, 106, 108。

  • 产品型号:SCE-110
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2023-11-12
  • 访  问  量:3839

详细介绍

当气体暴露在电子区域时可以形成等离子体。如果该区域气流足够强,高比例的气体原子将服从电子或两个成为已电离的。由此产生的电离气体和释放的高能电子组成的气体等离子或离子。已电离的气体原子的动能相对较小,除非他们通过电场加速。加速时,他们会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。等离子体效应的过程转换成材料的蚀刻工艺。活性气体在分子级上的使用也产生化学反应。

气体等离子体类型:各向异性等离子体是有方向性的,由电气控制一些具体的高能离子,或某个范围的能量(见美国铝框系统)。

各向同性等离子体是多方位和包含整个的3 D等离子的设备(见美国石英筒备系统)。

气体等离子体处理了超过湿化学处理几个优点。液体的表面张力的现象消除,正如泡沫的形成,这可能会导致不*湿化。等离子蚀刻可以迅速结束,终止进程,而液体蚀刻工艺很难准确的结束。

“绿色”的优势:无氟氯化碳和污水,操作和环境安全。排除有毒和腐蚀性的液体。等离子处理的主要缺点是较低的吞吐量。

我们致力于气体等离子处理,即让气体在常温下,无热相变下改变。这些气体可以是惰性的,也可以是起反应的。在反应性气体的情况下,利用动量转移处理以及气体反应的化学性质改变材料的特性。

铝质腔体等离子系统Aluminum Chamber Plasma Systems

SCE 14铝质腔体等离子系统

长宽高356毫米的立方体腔体

外形尺寸559毫米 x 686毫米 x 915毫米 (w,d,h)

SCE 18铝质腔体等离子系统

长宽高457毫米的立方体腔体

外形尺寸 711毫米x 711毫米x 1651毫米(w,d,h)

SCE 24铝质腔体等离子系统

长宽高610毫米的立方体腔体

外形尺寸 864毫米 x 813毫米 x 1829毫米 (w,d,h) 

SCE30铝质腔体等离子系统

长宽高762毫米的立方体腔体

外形尺寸915毫米x 915毫米x 1829毫米(w,d,h)

石英滚筒等离子系统Quartz Barrel Plasma Systems

4" diameter x 8" long  

102毫米直径 x 203毫米长腔体

外形尺寸26" H x 23" W x 30" D  660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D

SCE 106石英滚筒等离子处理系统

6" diameter x 8"long

 152毫米直径x 203毫米长腔体

外形尺寸 26" H x 23" W x 30" D  660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D

SCE108石英滚筒等离子处理系统

8" diameter x 8"long 腔体

203毫米直径x203毫米长

外形尺寸  26"H x 23"W x 30"D  660毫米 H x 584毫米 W x 762毫米 D

SCE110石英滚筒等离子处理系统

10" dia x 18" L long 

254毫米直径x 457毫米长腔体

外形尺寸36"H x 21"W x 30"D  914毫米Hx533毫米W x 762毫米 D

SCE 115石英滚筒等离子处理系统

10" dia x 18" L long 

254毫米直径x 457毫米长腔体  

外形尺寸22" W x 36" H x 27" D   559毫米x914毫米H x 686毫米 D

SCE150石英滚筒等离子处理系统

10" dia x 18"L  2 4毫米直径x 457毫米长腔体

SCE 604石英滚筒等离子处理系统

Four (4) chambers 4" x 8" diameter Quartz  

4个腔体102毫米x203毫米直径石英腔体

玻璃等离子系统Tumbler Plasma Systems

SCE 10等离子处理系统

SCE 18等离子处理系统

Aluminum Basket (457毫米 x 1016毫米)

控制系统Control System

     PLC - "Touch-Panel" operation

PLC  触摸面板操作

     Digital count down timer (hrs, min, sec)

数字倒计时定时器(小时,分,秒)

     Digital On-Screen vacuum display

数码屏幕真空显示器

     Gas flow with needle valve control

气体流量针形阀控制

     Manual tuning standard

手动校准标准

     Optional: Automatic RF tuning for load match

     可选的:自动射频调整与负载匹配

反应腔体Reactor Chamber

     4" diameter x 8" long quartz chamber

     4英寸直径x8英寸长的石英舱体

     RF shielded

     射频屏蔽

     Front load

     前负荷

尺寸:Dimensions

     26" H x 23" W x 30" D

     26英寸Hx23英寸Wx30英寸D

     275 lbs Crated weight

     275包装重量。

射频功率源RF Power Source

     0-150 Watt RF 13.56 MHz supply

     0-150 W射频13.56兆赫兹供应

     Forward and reflected power readings

     正向和反射功率读数

     Low frequency optional

     低频选项

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