德国osiris显影机：DEVELOPER，设计用于：显影、清洁和干燥。晶圆显影机在半导体制造和微纳加工领域起着至关重要的作用，帮助实现微电子元件的精密制造和微米级结构的加工。

UNIXX S 30 D 显影机是应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸为2英寸到12英寸的 圆片和最大到9英寸x9英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺 均匀性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 UNIXX S 30 D的落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适 用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且 可以升级成自动化

UNIXX S 20 D 显影机是应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸最大到8英寸的圆片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺均匀 性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 UNIXX S 20 D的落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适 用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且 可以升级成自动化的系统

自1985年起，Laurell 湿法刻蚀设备是生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，*有超过15000套系统正在安全运行。

Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶，显影，刻蚀，冲洗，甩干等工艺，可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀，我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累，通过对各路试剂注射的控制，对氮气和去离子水综合应用，能够完整实现样片的干进干出。是当今*和经济的湿法处理解决方案。

Laurell匀胶显影机EDC产于美国，是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统，目前客户已遍布。还有WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。