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核心技术突破
TRANSENE酸性镀铜液采用创新化学体系，具有三大技术优势：
1. 智能稳定剂系统：
l 精确控制镀液电阻率
l 促进形成光亮致密镀层
l 有效抑制枝晶生长
2. 纳米级晶粒控制：
l 获得均匀分布的非柱状晶结构
l 晶粒尺寸控制在50-100nm范围
l 表面粗糙度Ra<0.2μm
3. 宽工艺窗口设计：
l 温度适应范围21-49℃（70-120℉）
l 电流密度窗口20-50ASF
l 兼容多种基材处理
工艺性能参数
关键指标 | 技术参数 |
工作温度 | 21-49℃（70-120℉） |
最佳电流密度 | 20-50ASF |
沉积速率（20ASF时） | 0.5密耳/小时（12.7μm/h） |
铜离子浓度 | 6盎司/加仑（45g/L） |
pH值范围 | 2.5-3.5 |
阴阳极比例 | 1:1 |
工作电压 | 4-6V |
专业应用解决方案
本产品特别适用于以下应用场景：
✓ 高密度互连（HDI）PCB制造
✓ 集成电路载板电镀
✓ 半导体封装通孔填充
✓ 精密连接器表面处理
✓ 电力电子器件散热层
智能工艺控制系统
1. 精准pH管理：
l 采用硫酸自动调节系统
l 实时监控pH波动±0.1
l 确保工艺稳定性
2. 高效过滤方案：
l 连续过滤系统
l 推荐过滤精度1-5μm
l 兼容多种耐酸材料
3. 搅拌技术：
l 机械式搅拌设计
l 优化流体动力学参数
l 确保镀液均匀性
产品核心优势
1. 通孔电镀专家：
l 高深镀能力（TP值>85%）
l 覆盖高深宽比结构
l 解决传统工艺"狗骨"效应
2. 经济效益显著：
l 沉积速率提升30%
l 铜阳极100%利用率
l 延长镀液使用寿命
3.：
l 通过IPC-4552A认证
l 镀层延展性>15%
l 电阻率<1.72μΩ·cm
选择TRANSENE酸性镀铜解决方案，为您的电子产品赋予超导级铜镀层保护！让我们携手推动电子制造工艺迈向新高度。
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联系人：邓经理
地址：洪山区珞狮南路147号未来城A栋
邮箱：sales@mycroinc.com
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