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Laurell匀胶显影机EDC产于美国，是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统，目前客户已遍布。还有WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。
Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 Harrick 等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉.
EDC湿法刻蚀显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。
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