设为主页 加入收藏 联系我们

当前位置:

首 页 > 新闻资讯 > MicroChem光刻胶满足的硬性指标要求
目录导航 Directory

News

MicroChem光刻胶满足的硬性指标要求
发布时间:2017-09-20 点击次数:987次
   MicroChem光刻胶满足的硬性指标要求
  
  MicroChem光刻胶的主要性能
  
  划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在曝光之后,被浸入显影溶液中。在显影过程中,正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下,未曝光的区域保持不变。负性光刻胶正好相反,在显影剂中未曝光的区域将溶解,而曝光的区域被保留。正性胶的分辨力往往是的,因此在IC制造中的应用更为普及,由于加工要求相对较低,光刻胶需求量大,负性胶仍有应用市场。
  
  MicroChem光刻胶必须满足几个硬性指标要求:高灵敏度,高对比度,好的蚀刻阻抗性,高分辨力,易于处理,高纯度,长寿命周期,低溶解度,低成本和比较高的玻璃化转换温度(Tg)[2]。主要的两个性能是灵敏度和分辨力。大多数光刻胶是无定向的聚合体。当温度高于玻璃化转换温度,聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现,因此呈粘性流动。当温度低于玻璃化转换温度,链条片段的分子运动停止,聚合体表现为玻璃而不是橡胶。当Tg低于室温,胶视为橡胶。当Tg高于室温,胶被视为玻璃。由于温度高于Tg时,聚合体流动容易,于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理,可达到更稳定的能量状态。在橡胶状态,溶剂可以容易从聚合体中去除,如软烘培胶工艺。但此时胶的工作环境需要格外关注,当软化胶温度大于Tg时,它容易除去溶剂,但也容易混入各种杂质。一般来说,结晶的聚合体不会用来作为胶,因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。

电话:400-8800298
点击这里给我发消息

 
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站