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MicroChem光刻胶有哪些地方适用情况

发布时间:2017-08-17      点击次数:3720
   MicroChem光刻胶有哪些地方适用情况
  
  MicroChem光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
  
  光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被溶解,只留下未受光照的部分形成图形;而负胶却恰恰相反,经过曝光后,受到光照的部分会变得不易溶解,经过显影后,留下光照部分形成图形。
  
  负胶在光刻工艺上应用zui早,其工艺成本低、产量高,但由于它吸收显影液后会膨胀,导致其分辨率(即光刻工艺中所能形成zui小图形)不如正胶,因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术,主要使用正胶作为光刻
  
  MicroChem光刻胶使用注意事项:
  
  ①若腐蚀液为碱性,则不宜用正性光刻胶
  
  ②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
  
  ③负性胶价格成本低,正性胶较贵
  
  ④工艺方面:负性胶能很好地获得单根线,而正性胶可获得孤立的洞和槽
  
  ⑤健康方面:负性胶为有机溶液处理,不利于环境;正性胶属于水溶液,对健康、环境无害
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