硅的各向异性湿法腐蚀是一种常用的制造微机械结构的体硅微加工技术，因为其实现相对容易，成本也相对低廉。而且，在大多数工艺中不需要消耗电力资源。在这一过程中，其反应为：Si+4H2O-Si(OH)4+2H2氢氧根离子没有明确出现在反应中，但它十分重要，因为它催化反应并确保Si(OH)4产物在溶液中的溶解度。腐蚀的速率取决于温度、蚀刻剂组成和表面的晶体学取向关系。值得注意的是，因为这种反应只涉及到化学反应，当半导体的电位被外部电源改变使，它的反应速率却不受影响。各向异性所有碱性蚀刻...

ICP/RIE蚀刻应用范围：-Si，SiO2，SiN蚀刻工艺-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金属蚀刻工艺-晶圆尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圆RIE等离子刻蚀案例：SiO2/SiN蚀刻80sccmCF4，均匀性几种功率水平下的压力与蚀刻速率（如下图）：PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料，拥有模块化腔室和电极配置，可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小，触摸屏计算机控制，多级程序控制和组件控制，操作简单。用于研究、工艺开发和批量生产，...

“纳米压印技术”展示了通过在温度和压力控制的印刷过程中使热塑性材料物理变形来执行低于100nm平行光刻的能力。使用通过电子束光刻和干刻蚀图案化的硅压模来实现。这项技术的优点在于，可使用具有纳米图案的硅“母版”，进行成千上万次复制，从而降低成本并提高产量，用于半导体工艺中的开发个研究。包含的技术：热压印、UV紫外压印、微米结构压印（µCP）、卷对卷压印和注塑成型等。典型的基材材料：硅，熔融石英，III-V材料和聚合物材料等。典型的压印聚合物：PMMA，COC，COP...

结合使用等离子处理和旋涂，研究人员可以获得具有更高稳定性和性能的均匀材料涂层。等离子体处理通过引入含有亲水性氧的官能团来改变表面化学性质。极性基团使基材可润湿，并且能够更好地与水溶液相互作用。等离子处理促进了粘附力并在基材上平滑铺展。旋涂设备利用离心力来产生水平，均匀的薄膜和涂层。通过试验转速和加速度，研究人员可以JINQUE地确定特定的膜厚。旋涂可改善设备质量和专业外观。这些工具可以无缝地协同工作，以在各种基材上提供均匀的膜和涂层。在许多应用中，一致的涂层特性可提高稳定性和...

目前，越来越多的原子力显微镜被引入到各项研究中，但是相信很多科研人员会发现，做了几次样品后，针尖或者悬臂梁总会有东西粘附上去了，图像质量和原来的形貌出入太大，没有多少细节，甚至出现双针尖现象，这个时候，被污染的针尖已经严重影响到实验。而AFM探针针尖应该怎样清洗才合适呢，这个问题一直困扰着科研人员。粒子探针一般采用的是紫外臭氧清洗技术来清洗有机物，紫外臭氧技术*是光子输出，对探针表面不会造成任何损伤，是一种温和的清洗方法。PSD和PSDP系列紫外臭氧系统通过产生185nm和2...

钙钛矿广泛用于太阳能电池的开发。由于这些类型的太阳能电池具有良好的光伏性能，因此对它们进行了系统的研究。钙钛矿薄膜的厚度和形态是影响太阳能电池性能的重要因素。人们发现，特别当钙钛矿的厚度小于400nm时，钙钛矿太阳能电池的效率很大程度上取决于薄膜厚度；而当钙钛矿的厚度大于400nm时，效率则很大程度上取决于钙钛矿层的薄膜形态。在本篇方案说明中，我们使用FR-pRoVIS/NIR测量钙钛矿薄膜的厚度。FR-pRoVIS/NIR测量方法：用于表征的样品是两种不同厚度的CH3NH3...

应用领域Harrick等离子清洗机应用领域广泛，包括材料科学，聚合物科学，生物医学，微流体技术，钙钛矿太阳能电池制备，光学器件，显微镜，牙科以及其他医学研究等。离子表面改性表面改性的好处通过等离子处理来附着或吸附官能团用以处理表面，改变特定应用的表面性能。根据所使用的工艺气体来定制引入官能团，然后可以使用适当的气体将表面润湿性更改为亲水性或疏水性。润湿性的提高，通过改善表面的覆盖范围和涂层的延展性以及增强两个表面之间的附着力，为后续处理（例如膜的沉积或分子吸附）做好准备。等离...