光刻胶的显影和光刻工艺今天小编要跟大家简要介绍关于光刻胶的显影过程和光刻工艺处理的一些相关内容。光刻工艺可用五个指标来衡量其效果：分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题，其中有3个指标，分辨率、灵敏度和缺陷率是与涂胶显影的工艺精度有重要。显影过程是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分除去或保留下来的过程。显影的主要过程如下：对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。1对准曝光（AlignmentａndExposure）对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶...

目前，MEMS发展迅速，已广泛应用于医疗、军事、航空、航天、汽车工业等领域。MEMS种类繁多，如MEMS传感器、MEMS执行器和光MEMS等，而各种薄膜在MEMS制造加工工艺中充当了重要角色。根据MEMS加工工艺需要，往往需要制作各种不同厚度的薄膜，薄膜厚度对工艺、后成型的器件性质有至关重要的影响。随着薄膜厚度的变化其性质往往也出现不同，精确测量各种功能薄膜的厚度值在MEMS制造加工领域有非常重要的意义。下面小编来介绍几种测量薄膜厚度的方法研究和对比：01接触式表面轮廓仪利用...

单模波导树脂ZPU12,13-RI和LFR系列光活性UV可固化树脂基于全氟丙烯酸酯。它们设计用于光波导器件和光通信中使用的光学薄膜的应用。这些涂料树脂具有优异的特性，例如低光学损失，低双折射和优异的环境稳定性。通过与标准聚合物溶液共混以满足各种波导结构中的使用需求，可以轻松实现对折射率的精确和连续控制。为了获得最佳的薄膜质量，应在紫外线照射期间建议使用氮气环境。产品规格型号-ExguideLFR-RI系列-ExguideZPU12,13-RI系列特征-UV固化型-低光损耗-环...

背景技术在各类光学有关的检测中经常需要在两个光学器件之间添加折射率匹配液以消除结合处界面对光学性能带来的影响。以光通信领域为例，近年我国宽带接入和光纤到户的发展使平面光波导芯片产品的需求量猛增。平面光波导就是在晶圆平面上利用不同物质的光折射率制造出光波传导通路，并完成过去由多个单一光器件才能实现的特定光通信功能的技术。测试平面光波导芯片时，会将芯片与其他光学器件如光纤、光纤阵列等连接起来，为了避免光在这些连接点位置出现强度、偏振态变化等光学性质的变化，通常会在这些连接点之间点...

锂离子动力电池在制作过程中，压实密度对电池性能有较大的影响。通过实验证明，压实密度与片比容量，效率，内阻，以及电池循环性能有密切的关系。找出*佳压实密度对电池设计很重要。一般来说，压实密度越大，电池的容量就能做的越高，所以压实密度也被看做材料能量密度的参考指标之一。压实密度不光和颗粒的大小、密度有关系，还和粒子的级配有关系，压实密度大的一般都有很好的粒子正态分布。可以认为，工艺条件一定的条件下，压实密度越大，电池的容量越高。合适的正极压实密度可以增大电池的放电容量，减小内阻，...

Dake压片机分为单冲压片机和旋转式压片机是两种常见的压片设备。单冲压片机由于价格低廉、操作方便、结构简单受到了实验室、研究所、大专院校等研究人员的欢迎，然而由于单冲压片机存在诸多的不足，最终导致实验室获得的结果与车间实际使用的旋转式压片机压制的结果差异很大，无法将实验室的试验数据直接复制用于实践生产。Dake压片机的使用注意事项：1、机器设备上的防护罩、安全盖等的装置不要拆除,使用时应装妥。2、冲模需经严格探伤试验和外形检查,要无裂缝、变形、缺边,硬度适宜和尺码准确的,如不...

NXQ4006光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。通俗易懂的说，光刻机就是在制造芯片时*的工具，没有光刻机就没有芯片。NXQ4006光刻机工作过程详细介绍1.打开NXQ4006光刻机电源开关，（右表板上标有“电源”字的开关），灯亮，气压表显示数值。此时检查左表板上的“系统真空”表，看是否保持真空度≥-0.07MPa以上，否则要检查漏气原因并消...