MicroChem光刻胶灵敏度能量

　　MicroChem光刻胶灵敏度能量
　　
　　MicroChem光刻胶成分分析：通过多种大型仪器联用获得相关谱图，比对谱图数据库分析出组分及含量；
　　
　　MicroChem光刻胶配方还原：通过产品各组分组成及其比例，分析出产品基础配方；
　　
　　MicroChem光刻胶异物诊断：就产品中的异物，确定其主要组成成分，分析物质产生途径；
　　
　　MicroChem光刻胶性能改进：针对产品常见的问题，通过分析基础配方找出相关性能差的原因并提出改进建议。
　　
　　据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。
　　
　　正胶
　　
　　曝光前对显影液不可溶，而曝光后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。
　　
　　优点：分辨率高、对比度好。
　　
　　缺点：粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
　　
　　灵敏度：曝光区域光刻胶*溶解时所需的能量
　　
　　负胶
　　
　　与正胶反之。
　　
　　优点：良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。
　　
　　缺点：显影时发生变形和膨胀，导致其分辨率。
　　
　　灵敏度：保留曝光区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。