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MicroChem光刻胶灵敏度能量

发布时间:2017-11-16      点击次数:1804
  MicroChem光刻胶灵敏度能量
  
  MicroChem光刻胶成分分析:通过多种大型仪器联用获得相关谱图,比对谱图数据库分析出组分及含量;
  
  MicroChem光刻胶配方还原:通过产品各组分组成及其比例,分析出产品基础配方;
  
  MicroChem光刻胶异物诊断:就产品中的异物,确定其主要组成成分,分析物质产生途径;
  
  MicroChem光刻胶性能改进:针对产品常见的问题,通过分析基础配方找出相关性能差的原因并提出改进建议。
  
  据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。
  
  正胶
  
  曝光前对显影液不可溶,而曝光后变成了可溶的,能得到与掩模板遮光区相同的图形。
  
  优点:分辨率高、对比度好。
  
  缺点:粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
  
  灵敏度:曝光区域光刻胶*溶解时所需的能量
  
  负胶
  
  与正胶反之。
  
  优点:良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。
  
  缺点:显影时发生变形和膨胀,导致其分辨率。
  
  灵敏度:保留曝光区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。
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