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MicroChem光刻胶使用注意事项

更新时间:2015-10-26      点击次数:4170
   目前,MicroChem光刻胶应用很广泛,给使用者节约了不少时间,也提高了工作效率;但是在使用中要注意哪些呢?
  
  MicroChem光刻胶使用注意事项:
  ①若腐蚀液为碱性,则不宜用正性光刻胶
  ②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题
  ③负性胶价格成本低,正性胶较贵
  ④工艺方面:负性胶能很好地获得单根线,而正性胶可获得孤立的洞和槽
  ⑤健康方面:负性胶为有机溶液处理,不利于环境;正性胶属于水溶液,对健康、环境无害
  
  
  以上关于MicroChem光刻胶的保养与使用注意事项就为大家分享到这里了,相信大家在看了以上所讲的内容后,在日后的操作中就可以更方便的使用MicroChem光刻胶。
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