NXQ8000系列掩膜曝光机可在多种领域中应用

　　NXQ8000系列掩膜曝光机全面满足科学研究，工艺级生产等多领域的应用。*采用非接触式100%标定系统，对晶圆和掩膜没有伤害，大大提高间隙精度

　　非接触式掩膜对准机maskaligner适合各种电子元器件，包括半导体，LED,LD,MEMS，传感器等。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机主要是用于光刻胶曝光。光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。

　　光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被溶解，只留下未受光照的部分形成图形而负胶却恰恰相反，经过曝光后，受到光照的部分会变得不易溶解，经过显影后，留下光照部分形成图形。负胶在光刻工艺上应用早，其工艺成本低、产量高，但由于它吸收显影液后会膨胀，导致其分辨率（即光刻工艺中所能开诚小图形》不如正胶，因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术，主要使用正胶作为光刻胶。

　　NXQ8000系列掩膜曝光机的清洁

　　所有石英灯管在封装运输前都会经过精心的清洁步骤。如果小心处理，(例如：灯管主体没有指纹)，当打开包装时即可使用。如果用双手直接接触灯管,则应用脱离子水或工业酒精稍稍浸湿纸巾，仔细擦拭灯管，再用干燥纸巾重新将灯管擦干。根据需要，还应定期清洁灯管及反射罩。尤其在当灯管表面沾有其它附着物时更应进行清洁。如果不能及时处理，将导致灯管过早失去透明性并会影响其工作效果。

　　以上便是今天关于NXQ8000系列掩膜曝光机可在多种领域中应用的全部分享了，希望对大家今后使用本设备能有帮助。