匀胶机/匀胶旋涂仪 |
湿法刻蚀显影清洗系统 |
掩膜曝光光刻机 |
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Mask Aligner系列 |
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NXQ系列 |
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烤胶机/热板 |
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纳米压印光刻机 |
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NIL系列 |
紫外臭氧清洗机 |
紫外固化机/紫外固化箱 |
等离子清洗机 |
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大气常压等离子清洗系统 |
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HPC小型射频等离子清洗机 |
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PIE小型等离子清洗机 |
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PPC微波等离子清洗机 |
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PE等离子表面处理清洗机 |
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STAR系列等离子清洗机 |
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SCE射频等离子清洗系统 |
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Anatech等离子刻蚀机 |
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加热型手动压片机 |
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自动台式实验室压片机 |
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压实密度仪 |
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实验室电动压片机 |
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层压机 |
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Dake手压机 |
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Dake压片机 |
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WABASH平板硫化机 |
制样机 |
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干冰清洗机 |
注射泵 |
显微镜检测系统 |
程序剪切仪 |
光学试剂 |
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美国Cargille光学试剂 |
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美国Cargille光学浸入液 |
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美国Cargille激光液 |
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美国Cargille封片剂 |
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美国Cargille硼酸片 |
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美国Cargille显微镜浸油/香柏油 |
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美国Cargille光学试剂/光纤匹配膏 |
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美国Cargille折射率匹配液 |
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Naphrax 硅藻胶 |
韩国波导树脂 |
环氧树脂 |
钙钛矿材料 |
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钙钛矿前体材料 |
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钙钛矿前体油墨 |
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空穴传输材料&掺杂物 |
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密封剂 |
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添加剂材料/改性剂材料 |
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玻璃基板 |
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电解质/电解液 |
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染料&光敏剂 |
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配体材料&中间分子材料 |
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二氧化钛膏&铂膏 |
光刻胶 |
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碳纸 |
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JFP引线键合机 |
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喷涂机 |
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光谱仪 |
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光学胶 |
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晶圆切割机 |
电镜耗材 |
Alconox清洁剂 |
有机光伏材料 |
钙钛矿界面材料 |
Rondol挤压机 |
EDC湿法显影刻蚀系统
光刻胶显影(KrF/ArF)
SU8厚胶显影
显影后清洗
PostCMP清洗
光刻胶去除
金属Lift-off处理
刻蚀微刻蚀处理
新一代的旋转喷淋式湿法处理机台,不仅jinque控制试剂注射,还能够大大节约试剂,绿色环保的湿法处理方案。
顶盖阀门控制技术
显影液注射头的位置
我们采用dujia的VoD顶盖阀门控制技术,确保在基片中心位置垂直向下喷射,确保样片表面的试剂受力均匀性。
VS 其他厂商提供的喷射装置参考如下图,是从圆弧顶盖的不同角度倾斜喷射时,样片收集到的试剂量不均匀,接触面受力也不均匀,导致样片表面显影的时间不一致,出现不均匀,有些区域显影不够充分,有些区域过度显影。
喷射角度jinque控制
我们的喷嘴可随压力大小调节喷射角度大小(有具体的角度值对应关系)。
如上图所示,我方采用的是高jinque控制压力喷嘴,喷射的扇形角度可以随压力和流速予以jinque调节。可以根据样片的尺寸大小来调节喷射扇形面积,避免扇形过大,浪费试剂。
VS 其他国内厂商采用的是普通喷头,无法有效jinque地通过改变压力调节喷射扇形角度。
干进干出
如何做到样片的“干进干出”避免样品在显影完后,被腔体内的残液二次污染,非常重要。系统除了显影以外还需要配备样品冲洗甩干功能,吹氮功能,腔体内壁和顶盖清洗清洗,样品背面清洗功能。
以上功能需确保试剂或者去离子水注射开关jinque控制,无残留无滴漏。
VS国内厂商目前还不具备气动控制技术和旋转喷淋后的清洗处理经验。
高效的废液处理方案
优化过程控制,减少化学品和消耗品额度使用量。
智能程控,操作方便
配套触屏控制的SPIN3000软件,所见即所得。
可视化操作,该软件具有方便的数据存储,导入导出,数据模拟和实施记录功能。
VS 许多国内厂商采用的是PLC程序菜单。
配备蓝牙无线连接
为确保湿法处理的安全性,配备蓝牙无线连接。
VS 国内厂商采用的是以太网串口通讯连接。
基片和托盘
正确的托盘可确保您的基片在处理过程中的稳固。
卡式镂空托盘是以小接触面来固定基片,可对基片的下方实现背面冲洗(BSR)。
安全可靠
经标准独立测试
已通过Intertek®测试,Intertek®是一家独立性认证测试机构。
联锁装置
当盖子打开时联锁可防止旋转,控制软件可以根据传感器信息设置中止和警报状态。相互独立的阀门设置可防止混合不溶的化学试剂。
定制湿站
装载和操作一体化,完整高效的湿法处理方案。