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NXQ8000系列掩膜曝光机机械手机构曝光系统

发布时间:2018-03-22      点击次数:1473
  NXQ8000系列掩膜曝光机机械手机构曝光系统
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机对准工作台:
  
  高精度薄型精密双层三维对准工作台,采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构,保证了工作台的直线性和旋转精度。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机机械手机构:
  
  机械手采用直线导轨和滚珠丝杠结构,具有高的定位精度和重复精度。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机上版架系统:
  
  上掩模版的升降导轨选用THK可调分离型直线导轨,驱动采用高分辨率的数显微分头,从而保证两掩模版的重复精度和定位精度。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机对准观察系统:
  
  双光路结构的卧式分离视场显微镜,可以获取高清晰的图像同时兼容CCD成像液晶显示功能
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机电气控制系统:
  
  整机采用PLC+触摸屏控制,提供运行状态显示及多种检测功能,易于操作,控制精度高,性能稳定。
  
  NXQ8000系列掩膜曝光机曝光系统:
  
  上、下两套独立的紫外光曝光系统,采用先进的结构方案,具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。
  
  
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