NXQ8000系列掩膜曝光机机械手机构曝光系统

　　NXQ8000系列掩膜曝光机机械手机构曝光系统
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光机对准工作台：
　　
　　高精度薄型精密双层三维对准工作台，采用交叉滚柱V形导轨副和θ向超薄轴承及中心滑块结构，保证了工作台的直线性和旋转精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光机机械手机构：
　　
　　机械手采用直线导轨和滚珠丝杠结构，具有高的定位精度和重复精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光机上版架系统：
　　
　　上掩模版的升降导轨选用THK可调分离型直线导轨，驱动采用高分辨率的数显微分头，从而保证两掩模版的重复精度和定位精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光机对准观察系统:
　　
　　双光路结构的卧式分离视场显微镜，可以获取高清晰的图像同时兼容CCD成像液晶显示功能
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光机电气控制系统：
　　
　　整机采用PLC+触摸屏控制，提供运行状态显示及多种检测功能，易于操作，控制精度高，性能稳定。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光机曝光系统：
　　
　　上、下两套独立的紫外光曝光系统，采用*结构方案，具有较高的光强、均匀性、光学分辨率。