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  • 2022

    7-27

    简介硅基底的传感器因其高性能、低成本和小尺寸而广泛应用于不同的MEMS微机电系统。悬浮在图案上的硅膜或基于SOI的传感器上的活性硅层的厚度对于控制最终平台的性能至关重要[1]。在这里,我们已经在一个MEMS微机电系统压力传感器上测量了硅薄膜厚度,使用的是孔径为250μm的FR-μProbe,该工具安装在一个徕卡分模光学显微镜上。使用10倍物镜进行测量,该物镜与选定的孔径大小一起对应于25μm的光斑大小(测量区域)。使用内部光源将FR-μProbe安装在光学显微镜上测量方法获得...

  • 2022

    7-27

    具有可控和可调节表面化学性质的清洁表面对于改善材料的界面,生物和电子性能,以获得*佳的设备和结构性能至关重要。等离子体表面处理可去除纳米级有机污染物,并在不影响整体材料的情况下改变表面化学性质。等离子清洗的好处等离子体清洁是通过化学反应(O2或空气等离子体)或物理消融(Ar等离子体)去除有机污染物。等离子体处理还在表面上引入了化学官能团(羰基,羧基,羟基),使大多数表面具有亲水性,水接触角的减小和润湿性的提高。清洁且亲水的表面通常对于促进附着力和增强与其他表面的粘合至关重要。...

  • 2022

    7-21

    WABASH平板硫化机主要用于硫化平型胶带(如输送带、传动带,简称平带),它具有热板单位面积压力大,设备操作可靠和维修量少等优点。平板硫化机的主要功能是提供硫化所需的压力和温度。压力由液压系统通过液压缸产生,温度由加热介质(通常为蒸汽)所提供。平带平板硫化机按机架的结构形式主要可分为柱式平带平板硫化机和框式平带平板硫化机两类;按工作层数可有单层和双层之分:按液压系统工作介质则可有油压和水压之分。WABASH平板硫化机操作方法:1、按模具尺寸和规定的单位压力调整压力表,严禁超压...

  • 2022

    7-7

    MC应用|Harrick等离子清洗机PDMS键合小能手!HarrickPlasma→PDMSBonding,时长00:14应用领域聚(二甲基硅氧烷)(PDMS)是基于硅酮的有机聚合物,因其低成本和多功能性而广泛用于专业和学术研究实验室。PDMS是惰性的,透明的,可通过软光刻轻松定制,该技术用于成型PDMS并将纳米级特征和微通道压印到其表面上。Harrick等离子清洗机可去除有机污染物并激活PDMS表面,以用于与玻璃,PDMS或其他经过类似处理的表面进行粘合。PDMS键合于微流...

  • 2022

    7-7

    科研圈|超逼真20张动图,秒懂四大电镜原理(SEM,TEM,AFM,STM)!材料的显微分析能获得材料的组织结构,揭示材料基本性质和基本规律,在材料测试技术中占重要的一环。对各种显微分析设备诸如SEM、TEM、AFM、STM等,各位材料届的小伙伴一定不会陌生。最近小编发现一些电镜动画,被惊艳到,原来枯燥无味的电镜可以变得这么生动,闲言少叙,下面就和大家一起来分享。扫描电子显微镜(SEM)扫描电镜成像是利用细聚焦高能电子束在样件表面激发各种物理信号,如二次电子、背散射电子等,通...

  • 2022

    6-21

    光刻胶的显影和光刻工艺今天小编要跟大家简要介绍关于光刻胶的显影过程和光刻工艺处理的一些相关内容。光刻工艺可用五个指标来衡量其效果:分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题,其中有3个指标,分辨率、灵敏度和缺陷率是与涂胶显影的工艺精度有重要。显影过程是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分除去或保留下来的过程。显影的主要过程如下:对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。1对准曝光(AlignmentandExposure)对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶...

  • 2022

    6-21

    目前,MEMS发展迅速,已广泛应用于医疗、军事、航空、航天、汽车工业等领域。MEMS种类繁多,如MEMS传感器、MEMS执行器和光MEMS等,而各种薄膜在MEMS制造加工工艺中充当了重要角色。根据MEMS加工工艺需要,往往需要制作各种不同厚度的薄膜,薄膜厚度对工艺、后成型的器件性质有至关重要的影响。随着薄膜厚度的变化其性质往往也出现不同,精确测量各种功能薄膜的厚度值在MEMS制造加工领域有非常重要的意义。下面小编来介绍几种测量薄膜厚度的方法研究和对比:01接触式表面轮廓仪利用...

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